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沉积和退火温度对多晶ZnO薄膜结构特性的影响

李荣花

材料热处理学报 doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2006.06.011

采用RF反应溅射法在Si(111)衬底上制备出了沿C轴高度取向的多晶ZnO薄膜.通过对ZnO薄膜的X射线衍射(XRD)分析,研究了沉积温度及退火对多晶ZnO薄膜取向性、晶粒大小和应力的影响.结果表明,衬底温度和退火温度对多晶ZnO薄膜的晶体结构影响显著.适当的提高衬底温度或适当的增加退火温度都能有效地改善ZnO薄膜的结构特性,但增加退火温度更有优势.同时原子力显微镜观察表明,退火能有效地降低ZnO薄膜的表面粗糙程度.

关键词: 多晶ZnO薄膜 , RF反应溅射 , 退火 , 结构特性