曾振欧
,
王勇
,
张晓明
,
赵国鹏
电镀与涂饰
在中温(75 ℃)下以乳酸为主配位剂进行化学镀镍,研究了不同辅助配位剂的浓度对沉积速率和镀层磷含量的影响.对配位剂进行正交复配试验,得到最优组合为:乳酸10 mL/L,柠檬酸0.03 mol/L,DL-苹果酸0.06 mol/L,丙二酸0.05 mol/L.采用最优组合复合配位剂时,镀液稳定性好,在中温条件下的沉积速率为5.66 μm/h,镀层中磷的质量分数为1 1.78％,外观光亮细致,结合力良好,孔隙率低于0.24个/cm2,耐硝酸点蚀的时间超过180 s,耐中性盐雾96 h以上,镀层综合性能优良.
关键词:
化学镀镍
,
中温
,
高磷
,
乳酸
,
复合配位剂
罗小平
,
黄中林
,
谢继云
,
王增祥
,
陈昌国
电镀与涂饰
采用动电位扫描法和计时电流法研究了丁二酸、1,6-己二醇、尿素和乙二胺作辅助配位剂时,以甘氨酸为主配位剂的硫酸盐镀液中三价铬的电沉积机理.测试了不同配位体系镀液中所得铬镀层的外观和耐蚀性.辅助配位剂的加入可增强三价铬电沉积的阴极极化作用,但不会改变其三维瞬时成核机理.以尿素或乙二胺作辅助配位剂时,铬镀层均匀、光亮,耐蚀性好,因此尿素和乙二胺较适用于装饰性镀铬工艺.
关键词:
三价铬
,
电沉积
,
甘氨酸
,
复合配位剂
谭利华
,
叶福东
,
魏喆良
表面技术
为解决传统高温化学镀镍所存在的诸多问题,在中温(70℃)酸性条件下,以硫酸镍为主盐,次磷酸钠为还原剂,乙酸钠为缓冲剂,就乳酸、冰乙酸及二者复合的配位剂对黄铜中温化学镀Ni-P合金镀层性能的影响进行了研究.结果表明:复合配位剂中的乳酸主要起配位剂的作用,冰乙酸主要起缓冲剂的作用;采用复合配位剂的镀液的沉积速率与采用单一配位剂的镀液相当,但稳定性好,镀层孔隙率低,乳酸7.5 mL/L+冰乙酸13.0mL/L时所获得的镀层光亮平整,颗粒细小,均匀致密,且与基体结合良好,显微硬度可达515HV,孔隙率低于1cm-2,具有较好的耐磨性和耐蚀性.
关键词:
黄铜
,
化学镀Ni-P合金
,
中温
,
复合配位剂
宋仁军
,
赵永武
电镀与涂饰
doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.12.005
采用对比试验和正交试验,以镀速、孔隙率、镀液稳定性和镀层硬度为评价指标,研究了单一配位剂及复合配位剂对镀液和镀层性能的影响,得到了复合配位剂的最优组合:8.4 g/L 乳酸,6 g/L苹果酸,9 g/L柠檬酸,8 g/L丁二酸,1 g/L丙酸.采用该复合配位剂的工艺配方可提高镀液使用寿命,获得性能优良的镀层.
关键词:
化学镀镍
,
复合配位剂
,
镀液稳定性
,
镀层性能
肖忠良
,
卢意鹏
,
刘姣
,
曾鹏
,
周朝花
,
吴蓉
,
吴道新
,
曹忠
表面技术
doi:10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.042
目的 研究由乙二胺四乙酸二钠(EDTA-2Na)、乙二胺四亚甲基膦钠(EDTMPS)和柠檬酸三铵(C6H5O7(NH4)3)组成的复合配位剂,在不同浓度及pH下,对金沉积速率、镀金液稳定性、金镀层结构及性能的影响.方法 用化学镀的方法在树脂基体上先预镀覆Cu-Ni-Pd金属层,然后制备金镀层.采用正交实验法,研究复合配位剂浓度及pH对金层沉积速率、镀金液稳定性、结合力、光亮度的影响.借助扫描电镜及能谱,分析不同优化组合镀液配方制备的镀层形貌及成分.结果 以镀金沉积速率为评价指标时的最优组合为A2C3D3B2,以镀液稳定性为评价指标时的最优组合为A2C2B3D2,以镀层结合力为评价指标时的最优组合为A2D2B2C2,以镀层光亮度为评价指标时的最优组合为A3C1D2B2.将4个单一评价指标的最优组合重复实验,实验结果表明,当EDTA-2Na为15 g/L、EDTMPS为3 g/L、C6H5O7(NH4)3为30 g/L、pH为6.0时,镀液稳定性最高,可达6 MTO;镀层沉积速率最快,可达0.0066μm/min;镀层结合力可达5级,光亮度可达1级.结论 采用EDTA-2Na、EDTMPS和C6H5O7(NH4)3组成的复合配位剂,在适当的pH下能够提高镀层沉积速度及镀液稳定性,改善镀层表面形貌.
关键词:
化学还原镀金
,
复合配位剂
,
沉积速率
,
稳定性
,
结合力
,
光亮度
