麻鹏飞
,
蒋春东
,
吴疆
,
张萍
中国有色金属学报
为了提高Al 2 O 3超微粉在水介质中的分散稳定性，先采用硅烷偶联剂KH570对Al 2 O 3进行表面改性，再对Al 2 O 3粒子锚固偶氮引发剂偶氮二异丁基脒盐酸盐(AIBA)，进而引发丙烯酰胺(AM)单体聚合而制备聚丙烯酰胺(PAM)/Al 2 O 3复合粒子。利用XPS、FT-IR、激光粒度仪、微电泳仪、分光光度计、SEM及XRD等对Al 2 O 3复合粒子结构及分散性能等进行表征。结果表明：在40℃下加入水溶性偶氮引发剂，可以得到在水介质中分散稳定性良好，以聚丙烯酰胺为壳，以Al2O3为核的复合磨粒。与未改性的Al2O3超微粉相比，经AM接枝聚合改性后的颗粒表面团聚现象得到改善，颗粒的D 50减小；接枝改性后Al 2 O 3的等电点IEP发生迁移，在pH值为9时颗粒表面Zeta电位绝对值达到最大。
关键词:
Al2O3超微粉
,
偶氮引发剂
,
分散性
,
表面改性
,
复合磨粒
陈杨
,
汪亚运
,
秦佳伟
材料研究学报
以正硅酸乙酯为硅源、以氨水为催化剂、十六烷基三甲基溴化铵为结构导向模板剂,在单分散实心氧化硅(Solid-SiO2,sSiO2)内核表面包覆介孔氧化硅(Mesoporous-SiO2,MSiO2)外壳,合成了同质异构氧化硅(sSiO2/MSiO2)核/壳复合磨粒.用小角XRD、FESEM、HRTEM、FTIR、TGA和氮气吸附-脱附等手段对样品的结构进行了表征.结果表明,具有放射状介孔孔道的MSiO2均匀连续包覆在sSiO2内核(210-230 nm)外表面,形成了厚度为70-80 nm的外壳.壳层中的介孔孔道(孔径约2-3 nm)基本垂直于内核表面,且复合磨粒样品具有较大的比表面积(558.2 m2/g).用AFM形貌分析和轮廓分析评价了所制备的复合磨粒对SiO2薄膜的抛光特性.与常规实心SiO2磨粒相比,sSiO2/MSiO2复合磨粒明显改善了抛光表面质量并提高了材料去除率.这可能归因于MSiO2壳层通过机械和/或化学方面的作用对磨粒与衬底之间真实界面接触环境的优化.
关键词:
无机非金属材料
,
介孔氧化硅
,
核壳结构
,
复合磨粒
,
化学机械平坦化
陈爱莲
,
钱程
,
苗乃明
,
陈杨
复合材料学报
doi:10.13801/j.cnki.fhclxb.20141021.002
基于正负电荷间的静电作用制备了具有核-壳结构的聚苯乙烯-氧化硅(PS-SiO2)杂化颗粒,通过调节正硅酸乙酯的用量对样品的SiO2壳层厚度进行控制.利用原子力显微镜(AFM)在微观尺度上测定杂化颗粒的力-位移曲线,根据Hertz接触模型和Sneddon接触模型,考查了SiO2壳层厚度对样品压缩弹性模量的影响.扫描电子显微镜(SEM)和透射电镜(TEM)结果显示,杂化颗粒中PS内核尺寸为(197士9)nm,壳层由SiO2纳米颗粒组成,在本试验范围内杂化颗粒样品的壳厚为11～16 nm.在Hertz接触模型条件下,PS微球的弹性模量为(2.2±0.5) GPa,其数值略低于PS块体材料.当SiO2壳厚由11 nm增至16 nm时,杂化颗粒的弹性模量从(4.4士0.6) GPa增至(10.2士1.1) GPa,其数值明显低于纯SiO2,且更接近于PS内核.
关键词:
复合磨粒
,
杂化颗粒
,
核-壳结构
,
弹性模量
,
原子力显微镜
徐来军
,
倪自丰
,
陈国美
,
白亚雯
,
赵永武
硅酸盐通报
以SiO2溶胶作内核,分别以(NH4)2Ce(NO3)6、CO(NH2)2混合溶液与Ce(NO3)3·6H2O、HMT混合溶液作壳层前驱体,均相沉淀工艺制备了两种不同的CeO2/SiO2复合磨粒.利用XRD、TEM和FF-IR对比了两种磨粒的物相组成、纳米形貌和化学结构,并对包覆机理进行了解释;结果表明:以(NH4)2Ce(NO3)6、CO(NH2)2为原料制备的CeO2/SiO2复合磨粒包覆程度低;以Ce(NO3)3·6H2O、HMT为原料制备的CeO2/SiO2复合磨粒为壳-核包覆结构完整的纳米微球,粒径约110 nm,核层为无定形SiO2,壳层为立方萤石型CeO2颗粒,CeO2壳层与SiO2内核之间存在Si-O-Ce化学键,形成了稳定的壳核结构.
关键词:
SiO2
,
CeO2
,
复合磨粒
,
壳核结构
朱良健
,
滕霖
,
白满社
材料导报
复合磨粒抛光技术具有抛光速率高、面形精度好、表面缺陷少等优点,已成为当前的研究热点.综述了复合磨粒抛光技术中核壳型复合磨粒的制备方法、表征技术和作用机理的研究现状,指出了当前复合磨粒抛光技术存在的问题与不足,并对其发展方向进行了展望.
关键词:
抛光
,
复合磨粒
,
核壳型
