苏青峰
,
夏义本
,
王林军
,
史伟民
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2006.02.039
采用激光抛光和热化学抛光相结合的方法,对通过热丝CVD方法生长的金刚石薄膜进行了复合抛光处理.并利用X射线衍射仪(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对金刚石薄膜进行了表征.结果表明,所合成的金刚石薄膜是高质量的多晶(111)取向膜;经复合抛光后,金刚石薄膜的结构没有因抛光而发生改变,金刚石薄膜的表面粗糙度明显降低,光洁度大幅度提高,表面粗糙度Ra在100nm左右,基本可以达到应用的要求.
关键词:
CVD金刚石薄膜
,
复合抛光
,
表面粗糙度
