赵青南
,
倪佳苗
,
张乃芝
,
赵修建
,
姜宏
,
王桂荣
稀有金属材料与工程
制备了摩尔比为l:1的TiO2和CeO2陶瓷靶材.采用射频磁控溅射法在O2和Ar比例为5:95的混合气体中制备了玻璃基TiO2-CeO2薄膜.溅射过程中,工作气压保持在1.8 Pa不变,玻璃基片温度从室温(RT)～220℃之间变化.用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM...
关键词:
射频溅射
,
玻璃基TiOx-CeO2薄膜
,
紫外光截止镀膜玻璃
,
基片温度
黄永刚
,
陈敏
,
李长敏
,
张庆瑜
,
黄英
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2006.03.015
利用射频磁控溅射设备在玻璃基片上制备TiO2薄膜,采用AFM、UV-Vis分光光度、接触角测定仪等测试手段,研究基片温度对薄膜表面形貌、粗糙度和表面性能的影响.结果表明,随着基片温度增加,薄膜表面粗糙度增大,薄膜中颗粒由无定形态逐渐向定向排列的晶态转变,而薄膜结构、表面形貌和粗糙度的变化明显影响薄膜...
关键词:
TiO2薄膜
,
基片温度
,
原子力显微镜
,
表面形貌
,
表面性能
王朱良
,
李小丽
,
江凤仙
,
田宝强
,
吕宝华
,
许小红
稀有金属材料与工程
采用磁控共溅射法在Al2O3(0001)基片上沉积了Zn1-xCoxO(x=0.08～0.3%)薄膜,研究了基片温度对Co掺杂ZnO薄膜结构和磁性的影响.结果表明:Al2O3(001)基片很好地诱导了ZnCoO薄膜(002)取向生长,并且所有的薄膜均显示室温铁磁性.较低的基片温度不仅能有效抑制薄膜中...
关键词:
Co掺杂的ZnO薄膜
,
磁控共溅射
,
基片温度
,
铁磁性
马春红
,
马瑞新
,
李士娜
,
扈百直
,
钟景明
,
朱鸿民
稀有金属材料与工程
采用磁控溅射法以铌(Nb)掺杂氧化铟锡(ITO)为靶材制备了厚度为300 nm的ITO:Nb薄膜,研究了不同基底温度下,薄膜的结构、导电性和可见光区的透过率.XRD分析表明所制备的ITO:Nb薄膜均为In2O3相；AFM显示ITO:Nb薄膜的均方根粗糙度随着温度的升高逐渐变大;薄膜的电阻率随着温度的...
关键词:
掺铌ITO
,
透明导电薄膜
,
基片温度
,
性能
王传彬
,
涂溶
,
後藤孝
,
沈强
,
张联盟
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2008.03.027
采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在MgO(100)基片上制备了b轴取向的BaTi2O5薄膜,研究了基片温度(Tsub)、氧分压(Po2)等沉积工艺对薄膜结构的影响.结果表明: BaTi2O5薄膜的物相及取向性都随基片温度和氧分压的改变而变化,薄膜呈现(710)或(020)取向生长,最佳的PLD沉积条...
关键词:
BaTi2O5薄膜
,
b轴取向
,
基片温度
,
氧分压
徐亚新
,
熊杰
,
夏钰东
,
张飞
,
薛炎
,
陶伯万
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2013.12385
采用直流溅射法在Y2O3/YSZ/CeO2(YYC)缓冲层的织构NiW基带上,通过基片温度调制YBa2Cu3O7-δ (YBCO)外延薄膜生长.X射线衍射仪(XRD)表征显示,基片温度强烈地影响YBCO薄膜的外延生长:在较低的基片温度下薄膜趋于a轴取向生长,随基片温度升高薄膜逐渐变为纯c轴取向生长....
关键词:
YBa2Cu3O7-δ(YBCO)
,
基片温度
,
生长取向
,
位错密度
罗乐平
,
赵青南
,
刘旭
,
丛芳玲
,
顾宝宝
,
董玉红
,
赵杰
硅酸盐通报
通过选取室温、100℃、200 ℃三个不同基片温度制度来探讨基片温度对氧化钨薄膜电致变色循环寿命的影响.实验结果表明:当基片温度由室温提高至100℃后,氧化钨薄膜的循环寿命有较大的改善,循环次数由806次提高至3000次.当基片温度由100℃提高至200℃时,循环寿命反而有所衰退,循环次数由3000...
关键词:
直流反应溅射
,
氧化钨薄膜
,
基片温度
,
循环寿命
,
光学调制幅度
