冯峰
,
瞿体明
,
肖绍铸
,
张燕怡
,
史锴
,
韩征和
稀有金属
doi:10.13373/j.cnki.cjrm.2014.02.007
哈氏合金Hastelloy C276是一种被广泛应用的镍基合金,具有机械性能优良、抗腐蚀能力强等优势,在第二代高温超导导线的离子束辅助沉积(IBAD)技术路线中被用作金属基底,因此其表面抛光与粗糙度测量受到了广泛重视.哈氏合金的表面形貌和粗糙度测量一般采用原子力显微镜(AFM)方法,在该方法中扫描尺度对测量结果具有显著的影响.本研究对两个分别进行了电化学抛光和机械抛光的哈氏合金带材短样,在1 ～ 70 μm范围内选取不同扫描尺度进行了AFM测量,从而对其表面形貌获得了全面的了解,并发现其表面粗糙度随着扫描尺度的变大出现了明显的增大,文中还在不同扫描尺度下考察了电化学抛光与机械抛光的作用区别.此外,本研究中分析了AFM图像的后处理中flatten阶数的影响,对从AFM图像中分割出小尺度局域计算粗糙度的方法进行了改进,并讨论了AFM测量粗糙度的可重复性问题.通过这些研究,对表面粗糙度的AFM测量方法在全面性和有效性方面进行了完善,提出了粗糙度描述时有必要给出的相关参数.
关键词:
原子力显微镜
,
哈氏合金
,
表面粗糙度
,
扫描尺度
,
抛光
王毅
,
王盼
,
索红莉
,
贾强
,
卢东琪
,
李怀洲
,
吴海明
材料导报
doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2017.02.008
采用环保型抛光液对离子束辅助沉积技术路线用哈氏合金HastelloyC-276基带进行了电化学抛光,获得了典型的阳极极化曲线,并阐述了电化学抛光的机理.研究了影响电化学抛光的因素(电解液温度、抛光时间、抛光极距)对基带表面粗糙度的影响,优化工艺参数获得了表面粗糙度Rn＜5 nm(5μm×5μm)的高质量表面,满足后续生长过渡层对哈氏合金基带的要求.抛光液中的柠檬酸在50℃左右分解成络合剂,可迅速沉淀金属离子,提高表面的活性.
关键词:
表面粗糙度
,
哈氏合金
,
电化学抛光
,
原子力显微镜
