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张海斌 , 陈文斌 , 沈定中 , 任国浩
人工晶体学报 doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2003.06.002
采用变形有限元法对坩埚下降法晶体生长过程进行了瞬态数值模拟.对随下降距离生长位置、生长速度、界面位置处的法线方向温度梯度和凹度的变化进行了分析说明,将生长过程划分为三个阶段.结果表明在整个生长过程中,晶体生长条件一直处于变化之中,因而晶体的质量也在整块晶体中呈现一定的波动性.
关键词: 坩埚下降法 , 晶体生长 , 数值模拟 , 变形有限元法
