周少波
,
王双保
,
陈四海
,
易新建
材料开发与应用
doi:10.3969/j.issn.1003-1545.2004.06.006
通过反应离子溅射沉积和后退火工艺制备出优质微测辐射热计用的氧化钒薄膜.对薄膜退火前后进行了扫描电子显微镜分析,结果表明,制备的VOx多晶薄膜致密均匀,退火后晶粒尺寸变大.电学测试表明,在室温时薄膜的方块电阻约为50kΩ,电阻温度系数为-0.022/K,满足制作高性能微测辐射热计的要求.
关键词:
氧化钒薄膜
,
微测辐射热计
,
反应离子束溅射
,
制备参量
