范峰
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鲁玉明
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刘志勇
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高波
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应利良
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刘金磊
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蔡传兵
低温物理学报
研究了Cu60-Ni40wt%(简称Cu60)和CudO-Ni60wt%(简称Cu4O)两种不同组分的铜镍合金基带在不同温度下退火织构的形成过程,其中名义组分为Cu60-Ni40wt%的合金在650～1000℃退火一小时可获得良好的(001)织构.半高宽随着退火温度的升高而下降.1000~C退火后φ扫描的半高宽(FWHM)为5.5°,ω扫描的半高宽为6.1°.组分为Cu60-Ni40wt%的合金1150℃退火仍不能形成良好的织构.对于Cu40居其里温度点在室温以上,饱和磁矩大于Ni-at.%5W;而Cu60的居里温度点在20K,在77K下表现顺磁性质,其饱和磁矩仅为Ni-at.%5W基带的10%.在77K下Cu60的电阻为7.5×10-9Ω·m,比Ni-at.%5W的电阻要低的多.
关键词:
辊轴再结晶技术
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双轴织构
,
涂层导体
,
铜镍合金
石东奇
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杨坚
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袁冠森
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郝建民
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雷廷权
中国稀土学报
采用调制偏压射频磁控溅射技术在多晶Hastelloy-C金属基带上制备钇稳定的ZrO2薄膜(YSZ), 得到了c-轴织构和部分平面内双轴织构的YSZ薄膜. 用X射线衍射θ-2θ扫描、ω扫描和φ扫描对YSZ薄膜的织构进行了测量, 并研究了沉积条件对织构形成的影响.
关键词:
稀土
,
YSZ膜
,
双轴织构
,
调制偏压溅射
潘成远
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蔡传兵
,
应利良
,
高波
,
刘志勇
,
鲁玉明
,
刘金磊
低温物理学报
doi:10.3969/j.issn.1000-3258.2008.02.004
本文通过化学溶液法在双轴织构的金属Ni-W衬底上外延生长了CeO2超导涂层导体缓冲层薄膜.X衍射极图表明其面内外织构良好.扫描电子显微镜和原子力显微镜观察薄膜表面光滑、平整且粗糙度低.采用差热分析研究了升温速率及样品质量对前驱溶液热反应过程的影响,结果表明其热反应主要经历了三个过程,其中吸附水的脱去和醋酸组的解离分别发生在110～140℃与230～240℃两个温度范围内,且受升温速率的影响很小,表明这两个反应都在较短的时间内完成.而发生在250～500℃温度段的氧化合成反应则需要较长的时间,其反应结束温度与升温速率近似成线性增加.X衍射分析进一步证实了上述三个热反应过程,当温度达到700℃时CeO2可以得到完好的结晶.
关键词:
双轴织构
,
涂层导体
,
缓冲层
,
差热分析
蔡增辉
,
刘志勇
,
鲁玉明
,
蔡传兵
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2012.12028
为了降低第二代高温超导涂层导体的制备成本,采用电化学法(ED),在双轴织构的Ni-5at％W (Ni-5W)金属基带上分别成功制备出了具有较好c轴取向的La2Zr2O7 (LZO)和Gd2Zr2O7 (GZO)缓冲层.通过与磁控溅射方法(MS)相结合,制备出MS-CeO2/ED-RE2Zr2O7双层结构,用以取代完全用磁控溅射方法(MS)制备的多层缓冲层结构.电化学法得到的60 nm LZO缓冲层的面内和面外织构半高宽分别为7.2°和6.8°,同样厚度的GZO缓冲层的面内和面外半高宽分别为6.7°和5.8°.之后用脉冲激光沉积(PLD)在ED-LZO/Ni-5W,ED-GZO/Ni-5W,MS-CeO2/ED-LZO/Ni-5W三种结构的缓冲层上分别制备出具有超导性能的YBa2Cu3O7-δ (YBCO)超导层.
关键词:
YBCO
,
缓冲层
,
电化学
,
双轴织构
雷鸣
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李果
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孙瑞萍
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蒲明华
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王文涛
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武伟
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张欣
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张红
,
张勇
,
程翠华
,
赵勇
稀有金属材料与工程
用一种新的化学溶液沉积方法在双轴织构NiW (200)合金基底上制备了涂层导体用稀土氧化物RE2O3(RE=Y, Sm, Eu, Dy, Yb)缓冲层.分别利用X射线衍射,扫描电子显微镜,原子力显微镜对制得的RE2O3缓冲层的相结构、织构、表面形貌和平整度进行了检测.结果表明,RE2O3缓冲层具有较好的双轴织构,表面平整无裂纹.
关键词:
RE2O3缓冲层
,
化学溶液沉积
,
双轴织构
