彭开武
中国材料进展
doi:10.7502/j.issn.1674-3962.2013.12.03
简要回顾了聚焦离子束/扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征，以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加工、材料沉积加工如用于电学性能测试的四电极制作、指定点加工如原子力显微镜针尖修饰、三维加工、电子束曝光及其与聚焦离子束联合加工等纳米结构加工两方面，以一些具体实例分类进行了介绍。针对限制其应用的一些不利因素，如加工效率低、面积小、精度不足、加工损伤等问题，一些新技术如新型离子源Plasma、 He ＋/Ne ＋离子等与现有 Ga ＋聚焦离子束系统配合将成为未来发展方向。
关键词:
聚焦离子束
,
双束系统
,
纳米材料表征
,
纳米结构加工
,
电子束曝光
,
透射电镜样品制备
