游利兵
,
周翊
,
梁勖
,
余吟山
,
方晓东
,
王宇
量子电子学报
doi:10.3969/J.issn.1007-5461.2010.05.002
193nm ArF准分子激光光刻技术已广泛应用于90 nm以下节点半导体量产.分析了近期发展用于改进准分子激光性能的关键技术:主振-功率再生放大(MOPRA)结构,主振-功率振荡(MOPO)结构,主动光谱带宽稳定技术,先进的气体管理技术.对光刻用准分子激光光源技术发展趋势进行了简要的讨论.
关键词:
激光技术
,
ArF准分子激光
,
光刻
,
双图形
