王海军
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刘明
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宋亚南
,
郭永明
材料热处理学报
采用新研制的配有声发射检测装置的压人式试验机对超音速等离子喷涂的Al2O3陶瓷涂层和FeCrBSi合金涂层进行试验,研究了两种不同性质声发射反馈信号及其临界点的变化特点,以及涂层微观形貌.结果表明,涂层结合强度、涂层表面、界面压痕形貌与开裂程度及其声发射特征参量存在内在联系,表明对较厚的热喷涂涂层通过连续载荷的锥形压入,结合声发射监测技术是表征其结合强度的一种有效方法.
关键词:
涂层
,
结合强度
,
压入法
,
声发射技术
马胜利
,
李雁淮
,
徐可为
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2000.01.018
用工业型脉冲等离子体化学气相沉积(PCVD)设备,在高速钢(W18Cr4V)和钴基硬质合金SC30基材表面沉积了TiN薄膜,用扫描电镜(SEM)和连续加载压入仪研究了脉冲电压幅值对膜基结合行为的影响.结果表明:随脉冲电压在550-750 V之间逐渐增大,TiN晶粒增大,膜层脆性增加,沉积速率提高,但膜层结合力下降;在650 V以下膜基界面有一伪扩散层出现,超过650 V后伪扩散层消失,这是改善膜基结合行为的关键因素,讨论了伪扩散层形成的可能机制.
关键词:
PCVD TiN
,
膜基结合力
,
压入法
马胜利
,
李雁淮
,
徐可为
金属学报
用工业型脉冲等离子体化学（ＰＣＶＤ）设备. 在高速钢（Ｗ１８Ｃｒ４Ｖ）和钴基硬质合金ＳＣ３０基材表面沉积了ＴｉＮ薄膜, 用扫描电镜（ＳＥＭ）和连续加载压入仪研究了脉冲电压幅值对膜基结合行为的影响, 结果表明：随脉冲电压在５５０－７５０Ｖ之间逐渐增大, ＴｉＮ晶粒增大, 膜层脆性增加, 沉积速率提高. 但膜层结合力下降：在６５０Ｖ以下膜基界面有一伪扩散层出现, 通过６５０Ｖ后伪散层消失, 这是改善膜基结合行为的关键因素.
关键词:
PCVD
,
null
,
null
,
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