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羟基铝柱撑二硫化钼的制备及其催化加氢性能

张进飞 , 林碧洲 , 许百环 , 孙东亚 , 耿凤

催化学报

采用单分子层技术将羟基铝聚合物Al7+13阳离子嵌入到二硫化钼板层间,得到层间距为1.488~1.599 nm的柱撑复合材料. X射线粉末衍射等研究表明,羟基铝聚合物Al7+13经60 ℃恒温陈化2 d即可作为稳定的柱撑液使用; 在柱撑反应体系中,较小的Al/Mo摩尔比有利于获得客体物种较均一和结晶度较好的柱撑复合材料. 与原料 2H-MoS2 相比,柱撑二硫化钼的层间距增大,晶粒变小,比表面积增加. 差示扫描量热分析结果表明,柱撑材料具有较好的热稳定性. 选择苯饱和加氢反应为探针,测定了柱撑材料的催化活性. 气相色谱测定结果表明,柱撑二硫化钼的催化性能显著优于未柱撑的 2H-MoS2 和Raney Ni催化剂. 这与柱撑材料比表面积的增大、可能存在的缺陷增多而导致活性位增多以及对氢气的有效吸附增加有关.

关键词: 羟基铝 , 二硫化钼 , 单分子层 , 嵌入化学 , , 催化加氢

紫外光照法制备有机表面单分子羧基层

徐菁 , 马育红 , 杨万泰

高分子材料科学与工程

研究了通过紫外光辐照,在双向拉伸聚丙烯和低密度聚乙烯膜表面制备单分子层羧基的方法.激发态的丙酮分子先从有机聚合物的表面夺取C-H键的氢,生成大分子链自由基;然后过氧化丁二酸(BOS)裂解产生的带羧基的自由基与大分子链自由基偶合形成羧基.通过水接触角(CA)、紫外吸收光谱(UV)、X射线光电子能谱(XPS)和酸碱滴定等试验,证明在聚合物基材表面有羧基.对反应的工艺参数,如光照强度,光照时间、反应液的配方及BOS浓度等进行了考察.最佳的条件为:光强为8500μW/cm2,丙酮/水=3/7,BOS溶液为1%(质量/体积),光照15min.

关键词: 紫外辐照 , 表面羧基化 , 单分子层 , 过氧化丁二酸

铝簇柱撑MoS2复合材料及其对硫化物催化氧化作用

裴小科 , 林碧洲 , 张进飞

功能材料

本文采用单分子层技术制备铝簇柱撑二硫化钼复合材料,并用XRD对其进行表征.通过该方法制备的铝簇柱撑二硫化钼复合材料获得了0.883nm的开孔距离,并研究了其对Na2S氧化反应的催化作用.实验表明,铝簇柱撑二硫化钼复合材料较MoS2对Na2S的催化氧化活性提高近5倍.

关键词: 二硫化钼 , 单分子层 , 硫化物 , 催化氧化

羟基铬柱撑二硫化钼的制备及其对苯加氢反应的催化活性

张进飞 , 林碧洲 , 孙东亚 , 许百环 , 丁聪

催化学报

采用单分子层技术将羟基铬聚合离子[Cr4(OH)6(H2O)10]6+嵌入到二硫化钼板层间,得到层间距为1.319~1.341 nm的柱撑复合材料.X射线粉末衍射表明,羟基铬聚合物溶液经70℃恒温下陈化4 d即可作为稳定的柱撑液使用;在柱撑反应体系中,较小的n(Cr)/n(Mo)比和较低的Cr3+浓度有利于获得结晶度较好的柱撑材料.与原料2H-MoS2相比,柱撑材料的层间距增大,晶粒变小,比表面积增加并且热稳定性提高.对催化苯饱和加氢反应表明,柱撑材料Cr-MoS2的催化活性明显优于未柱撑的2H-MoS2和Raney Ni催化剂,且结晶度较好的柱撑材料更具有较高的催化活性和较好的可重复性.

关键词: 羟基铬 , 二硫化钼 , 单分子层 , , 催化加氢

光响应性树枝状偶氮苯单分子层

杨婷 , 夏常磊 , 刘和文

应用化学 doi:10.3724/SP.J.1095.2012.00134

偶氮苯树枝状分子通过中心羧基与金或者石英基体表面的氨基进行酰胺化反应得到树枝状分子单分子层修饰的表面,利用红外反射-吸收光谱(IRRAS)、UV-Vis和Raman光谱法研究了单分子层的结构和性能,利用椭偏谱法来测量四代树枝状(G4)单分子层在不同异构化形态的分子层厚度,其中反式构象的单分子层厚度为(2.38±0.09) nm,顺式构象厚度为(1.88±0.08) nm.利用表面等离子体共振(SPR)研究不同形态下G-4单层与不同等电点的蛋白质之间的相互作用关系,结果表明,G4单层为负电位表面,能够吸附正电位的蛋白质,而且当树枝状单分子层形态从反式变为顺式时,表面电位变为更负,能吸附更多正电位的蛋白质.

关键词: 偶氮苯 , 单分子层 , 树枝状分子 , 蛋白质吸附

层柱材料的超分子插层组装

饶小平 , 傅相锴 , 傅宏 , 饶凯 , 杨新斌 , 牛丽明

功能材料

首次合成了(脯氨酸-N-甲基膦酸-磷酸氢)锆(α-ZPMPP)层状晶体,以正丁胺为客体分子首次合成了α-ZPMPP-正丁胺超分子插层复合物.研究了α-ZPMPP在常温下对正丁胺的插层性能,用元素分析、红外光谱、X射线衍射、TG-DSC热分析对α-ZPMPP及其插层复合物进行了表征.研究表明,正丁胺的插入使层间距增大从1.52nm增加到1.97nm,插入的正丁胺在150~250℃可被脱除,正丁胺客体分子在主体底物中形成单分子层.

关键词: 插层性能 , 插层复合物 , 单分子层

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