颜立成
,
张俊喜
,
魏增福
,
张鉴清
中国腐蚀与防护学报
doi:10.3969/j.issn.1005-4537.2005.04.004
采用光电化学方法研究了304不锈钢载波钝化膜在硼酸/硼砂溶液中的光电化学性质.通过测量钝化膜的光电流与入射光光子能量的关系和光电流与测量电位的关系,结合半导体理论,对载波钝化膜的半导体特性和结构进行了分析.结果表明,载波钝化膜是一高度无序的非晶态半导体膜且具有p型半导体特性.膜层的光电流对测量电位的响应在一定范围内符合Poole-Frenkel效应,但在其它范围内则具有一定的复杂性.
关键词:
载波钝化
,
光电化学
,
半导体性质
,
不锈钢
,
钝化膜
张胜寒
,
檀玉
,
梁可心
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00270
采用光电化学法研究了Incoloy800HT和Inconel600镍基合金在288℃高温水中形成的氧化膜的半导体性质.组成镍合金氧化膜的物相为Ni的氢氧化物或镍铁氧化物、Cr2O3和FexNi1-xCr2O4,它们的特征带隙宽度分别为2.3,2.9/3.5和4.1-4.3 eV.在-400 mV至+400 mV范围内,Incoloy800HT合金表面氧化膜的光电化学响应表现为n型半导体性质,Inconel600合金表面氧化膜的光电化学响应表现为n/p型半导体性质,同时,在半导体性质从n型转变为p型的临界电压下,光电化学响应相角发生180°转变.
关键词:
光电化学响应
,
镍基合金
,
氧化膜
,
半导体性质
,
高温水
檀玉
,
梁可心
,
张胜寒
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00765
应用光电化学响应法和Mott-Schottky曲线法,研究了Ni201在500℃空气中生成的氧化膜和在pH值为8.4的中性缓冲溶液中阳极氧化生成钝化膜的半导体性质,分析了Ni201表面钝化膜的结构和组成.Mott-Schottky曲线表明,Ni201在该中性溶液中生成钝化膜的平带电位约为0.40 V,其在500℃空气中生成的氧化膜的平带电位约为0.15 V,前者的载流子浓度约是后者的34倍.在中性缓冲溶液中生成钝化膜的光电流谱表明,Ni201的结构由内层NiO和外层Ni(OH)2构成,其带隙宽度分别为2.8和1.6 eV.其中,具有晶体结构的内层NiO的带隙宽度与Ni201在500℃空气中生成的氧化膜的带隙宽度2.4 eV相似.通过光电化学法和Mott-Schottky曲线建立Ni201表面钝化膜的电子能带结构模型,解释了其内层NiO和外层Ni(OH)2同是p型半导体组成的钝化膜的半导体性质.
关键词:
Ni201
,
钝化膜
,
Mott-Schottky曲线
,
光电化学响应
,
半导体性质
张胜寒檀玉梁可心
金属学报
doi:10.3724/SP.J.1037.2011.00270
采用光电化学法研究了Incoloy800HT和Inconel600镍基合金在288℃高温水中形成的氧化膜的半导体性质. 组成镍合金氧化膜的物相为 Ni的氢氧化物或镍铁氧化物、Cr2O3和FexNi1-xCr2O4, 它们的特征带隙宽度分别为2.3, 2.9/3.5和4.1-4.3 eV. 在-400 mV至+400 mV范围内, Incoloy800HT合金表面氧化膜的光电化学响应表现为n型半导体性质, Inconel600合金表面氧化膜的光电化学响应表现为n/p型半导体性质, 同时, 在半导体性质从n型转变为p型的临界电压下, 光电化学响应相角发生180o转变.
关键词:
光电化学响应
,
Ni-based alloy
,
oxide film
,
semiconductor property
,
high temperature water
