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化学溶液沉积法在LaAlO3基底上制备La0.5 Sr0.5 TiO3 外延薄膜

高锋 , 李凤华 , 李英楠 , 王娜 , 樊占国

中国稀土学报

在常压下采用经济、适合规模化生产的化学溶液沉积法生长外延的La1-xSrxTiO3薄膜, 为YBa2Cu3O7-σ(YBCO)涂层导体提供导电缓冲层. 前驱溶液经旋转涂覆在单晶LaAlO3(001)基底上, 在纯氩气氛下分别于840, 890, 940和990 ℃恒温60 min制备薄膜. X射线衍射(XRD)分析, 在890~990 ℃的热处理条件下, 均得到纯净的具有良好外延性的La1-xSrxTiO3薄膜. 通过扫描电子显微镜(SEM)和扫描隧道显微镜(STM)观察, 样品表面光滑致密, 膜厚约为180 nm. 通过半定量能谱(EDS)分析, 确定薄膜成分为La0.4Sr0.6TiO3, 表明热处理过程中元素La部分挥发. 在890 ℃热处理温度下制得薄膜的电阻率约为1×10-2 Ω · cm.

关键词: 化学溶液沉积 , La0.5Sr0.5TiO3 , 缓冲层 , 超导薄膜 , 稀土

化学溶液沉积法中YBaCuO超导体合成反应动力学

洪成哲 , 罗清威 , 冉阿倩 , 樊占国

材料与冶金学报 doi:10.3969/j.issn.1671-6620.2011.01.005

利用德国耐驰STA 409 CD型热分析仪对YBCO化合物合成过程进行了研究.采用普适积分法,微分法及多重速率扫描Kissinger法相结合的方式来确定合成反应的机理,求解动力学参数.结果表明,YBCO超导体合成反应遵守随机成核和随后生长模型.利用积分法和微分法求得合成反应的平均表观活化能为174 kJ·mol-1.

关键词: 化学溶液沉积 , YBCO合成 , 非等温热重法 , 动力学

CSD制备涂层导体缓冲层的技术进展

王耀 , 周廉 , 卢亚锋 , 李成山 , 于泽铭 , 李金山

材料导报

化学溶液沉积(CSD)技术在制备高温超导涂层导体方面具有易操作和低成本的优点.简述了CSD技术的基本原理以及在不同结构缓冲层制备方面的应用,并展望了涂层导体缓冲层技术的发展趋势.

关键词: 高温超导 , 涂层导体 , 缓冲层 , 化学溶液沉积

ZnO纳米棒阵列膜的制备及其光电化学性能研究

王海锋 , 王树林 , 蹇敦亮 , 陈海燕 , 丁浩冉

功能材料

采用化学溶液沉积法,在ZnO纳米颗粒膜修饰的FTO导电玻璃基底上,制备了ZnO纳米棒阵列。用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、透射电子显微镜(TEM)对样品进行表征。研究结果表明所制备的ZnO纳米棒为六方纤锌矿相单晶结构,沿c轴择优取向生长,平均直径约为40nm,长度约为900nm;ZnO纳米棒阵列生长致密,取向性较一致。以曙红Y敏化的ZnO纳米棒阵列膜为光阳极制作了染料敏化太阳能电池原型器件,在光照强度为100mW/cm2下,其开路电压为0.418V,短路电流为0.889mA/cm2,总的光电转换效率为0.133%。

关键词: ZnO纳米棒阵列 , 化学溶液沉积 , 曙红Y , 染料敏化太阳能电池

化学溶液沉积法制备ZnO纳米棒阵列及其光学性能

王海锋 , 王树林 , 蹇敦亮 , 丁浩冉 , 陈海燕

材料导报

采用化学溶液沉积法,在经ZnO纳米粒子膜修饰的FTO导电玻璃基底上制备了ZnO纳米棒阵列,探讨了生长液浓度对ZnO纳米棒阵列形貌和光学性能的影响.利用XRD、FESEM、透射光谱和光致发光谱对样品的结构、形貌和光学性能进行了表征,结果表明,所制备的ZnO纳米棒为六方纤锌矿相.沿c轴择优取向生长;ZnO纳米棒阵列生长较为致密,取向性较一致,在可见光区具有很高的透光率,在378nm有很强的紫外发射峰;随着生长液浓度的降低,ZnO纳米棒阵列的缺陷可望大幅度下降.

关键词: ZnO纳米棒阵列 , 化学溶液沉积 , 生长液浓度 , 光致发光

化学溶液沉积法制备Y2O3过渡层

岳建设 , 李祯 , 王晓芳

材料导报 doi:10.11896/j.issn.1005-023X.2016.10.018

为了满足YBa2Cu3O7(YBCO)超导带材生产实际的需要,在金属基带和YBCO超导薄膜之间制备一层合适的氧化物过渡层显得尤为重要.以乙酸钇为原料配制前驱体溶液,采用金属盐化学溶液沉积法在织构的Ni-5%W(质量分数)(Ni-5W)带上成功制备了Y2O3过渡层.结果显示,氮气氛下1050℃热处理1h后,所获得的Y2O3过渡层具有良好的晶体织构,晶体生长取向为(100),完全复制了Ni-SW带模板的结构,为YBCO生长提供了良好的模板.在Y2O3过渡层上制备的YBCO薄膜表现出良好的超导性能.

关键词: 超导 , 过渡层 , 化学溶液沉积 , Y2O3薄膜

高分子辅助化学溶液沉积制备涂层导体CeO2缓冲层

李果 , 蒲明华 , 孙瑞萍 , 王文涛 , 张欣 , 武伟 , 雷鸣 , 张红 , 杨烨 , 程翠华 , 赵勇

稀有金属材料与工程

分别采用两种高分子辅助化学溶液沉积方法,在双轴织构的NiW(200)合金基底上制备了涂层导体CeO2缓冲层.结果表明,制得的CeO2缓冲层双轴织构良好,表面无裂纹.比较两种不同的高分子辅助方法,利用聚甲基丙烯酸辅助制得的CeO2表面平整,均方根粗糙度在1 μm×1μm的范围内仅为2 nm,粗糙度远小于利用聚乙烯醇辅助沉积而得的CeO2缓冲层.

关键词: CeO2缓冲层 , 高分子辅助 , 化学溶液沉积

化学溶液法制备超导薄膜的中间热处理研究

金利华 , 卢亚锋 , 冯建情 , 于泽铭 , 王耀 , 李成山

稀有金属材料与工程

通过采用化学溶液沉积制备超导薄膜研究低温热解和高温晶化之间附加热处理过程,并比较这一过程对超导层成相、织构以及性能的影响.研究发现,中间热处理过程对超导层的织构有一定影响,合适的附加热处理过程有利于改善晶粒生长取向.当中间热处理温度为400℃时,超导层性能最佳(Jc=2.4 MA/cm2).

关键词: 化学溶液沉积 , 超导 , 钇钡铜氧

一种新型化学溶液沉积法制备涂层导体用RE2O3(RE=Y, Sm, Eu, Dy, Yb)缓冲层

雷鸣 , 李果 , 孙瑞萍 , 蒲明华 , 王文涛 , 武伟 , 张欣 , 张红 , 张勇 , 程翠华 , 赵勇

稀有金属材料与工程

用一种新的化学溶液沉积方法在双轴织构NiW (200)合金基底上制备了涂层导体用稀土氧化物RE2O3(RE=Y, Sm, Eu, Dy, Yb)缓冲层.分别利用X射线衍射,扫描电子显微镜,原子力显微镜对制得的RE2O3缓冲层的相结构、织构、表面形貌和平整度进行了检测.结果表明,RE2O3缓冲层具有较好的双轴织构,表面平整无裂纹.

关键词: RE2O3缓冲层 , 化学溶液沉积 , 双轴织构

CSD-La3TaO7薄膜外延生长行为

王耀 , 李成山 , 于泽铭 , 冯建情 , 金利华 , 王辉 , 张平祥

稀有金属

研究CSD技术制备La3TaO7 (LTO)缓冲层过程中前驱液的热分解行为以及热处理工艺对薄膜取向生长的影响,通过选取恰当的LTO前驱液以及快速升温热处理的方法最终获得了良好c轴织构的LTO薄膜.

关键词: 涂层导体 , 缓冲层 , 化学溶液沉积

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