马运柱
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石玉斌
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刘文胜
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李静
材料科学与工艺
研究了钨晶须的制备工艺,并分析了其生长机理.采用X射线衍射、扫描电镜、能谱分析、透射电镜对制备的钨晶须进行物相、形貌、成分、微观结构的分析和表征.研究表明：钨晶须长度大致在1～10μm,直径在1μm以下,部分达到纳米级;晶须为单晶bcc结构,生长方向为〈110〉;钨晶须形成过程为钨粉及其氧化产物与水汽反应生成气相水合物WO2（OH）2,遇氢气还原后形核并沉积,进而定向生长为晶须结构,钨晶须的生成遵循VS机理.
关键词:
钨晶须
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氧化还原
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化学气相迁移
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VS机理
