彭进
,
夏琳
,
邹文俊
表面技术
简述了化学机械抛光液的主要成分及其作用;综述了近年来国内外化学机械抛光液的发展现状,主要介绍了二氧化硅胶体抛光液、二氧化铈抛光液、氧化铝抛光液、纳米金刚石抛光液.最后指出,化学机械抛光液未来应向环保化、精细化以及专门化的方向发展.
关键词:
化学机械抛光液
,
二氧化硅
,
二氧化铈
,
氧化铝
,
纳米金刚石
何捍卫
,
胡岳华
,
周科朝
,
熊翔
功能材料
用电化学测试技术研究了腐蚀介质和成膜剂浓度对铜表面的腐蚀与钝化成膜的影响,分析了钝化膜的成分,探讨了钝化膜在抛光压力和转速作用下的磨损与表面再钝化的行为,测量了铜在化学机械抛光过程中的极化曲线.结果表明铜在甲胺溶液介质铁氰化钾抛光液中易钝化,钝化膜的主要成分为Cu4[Fe(CN)6],有少量Cu2O存在.钝化膜的磨损特性随成分浓度不同而不同.钝化膜的磨损难易程度与钝化膜的本身特性、抛光压力及转速有关.抛光过程中因钝化膜被磨损,腐蚀加快,腐蚀电流密度大幅增加.配方0.1%甲胺溶液+0.5%K3Fe(CN)6+5%Al2O3可行.
关键词:
铜
,
化学机械抛光液
,
腐蚀与钝化
