张婕
,
梁成浩
,
王鹏
,
郭承忠
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2006.06.017
对铜及其合金的化学抛光工艺及配方进行研究,通过正交试验得到了一组较好的铜及其合金化学抛光工艺配方.在此基础上讨论了抛光液各组分浓度、抛光温度以及抛光次数对抛光效果的影响.结果表明,经化学抛光后的铜及其合金表面光亮,达到镜面效果.抛光液维护方便、操作安全、无有害气体逸出,是一种理想的铜及其合金表面化学抛光工艺.
关键词:
化学抛光
,
H2O2-H2SO4体系
,
铜
,
铜合金
方景礼
电镀与涂饰
doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.08.011
分别介绍了低、中碳钢在硝酸体系和草酸-过氧化氢溶液体系,低碳钢在磷酸-硫酸-硝酸体系,高碳钢在缩合磷酸体系以及过氧化氢-氟化氢胺体系中的化学抛光工艺.对草酸-过氧化氢溶液体系各组分含量及工艺条件对抛光效果的影响进行了研究.从失重和光反射率角度研究了低碳钢在磷酸-硫酸-硝酸体系中的化学抛光行为,结果显示:于110 ℃下,当磷酸、硫酸、硝酸和水的含量分别为52%、32%、8%和8%时,可以获得最佳的抛光效果.总结了高碳钢在过氧化氢-氟化氢胺体系中的化学抛光注意事项:抛光液pH控制在1.5~2.5范围内,铁含量不能高于35 g/L,温度在15~25 ℃,并根据实情及时补充消耗物.
关键词:
钢铁
,
化学抛光
张来祥
,
谢洪波
,
李荣忠
,
杨玉业
,
颜世军
电镀与涂饰
doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2004.03.004
铜及铜合金制品经高温氧化后氧化皮过厚,进行化学抛光处理难度较大.研制出易于操作的低污染快速脱膜-低污染化学抛光-无铬高效钝化工艺.介绍了以上三道工序的规范、溶液配置及维护、工艺条件的影响.该工艺用于超厚氧化皮铜及铜合金零件表面处理,效果较好.
关键词:
铜及铜合金零件
,
超厚氧化皮
,
脱膜
,
化学抛光
,
无铬钝化
钟建华
,
刘金明
,
金平
材料保护
根据金属化学抛光的黏液膜或凹凸理论,在磷酸-硫酸基础液中加入组合添加剂,对工业纯铝进行无烟化学抛光,以改善抛光效果,并与传统三酸抛光效果进行对比.传统的无烟抛光剂中采用的Cu、Ni等重金属添加剂有利于氧化膜的生成,并具有明显的整平效果.抛光试验结果表明,当添加等量的Mg2+后,能够和cu2+发生协同效应,有利于抛光过程的进行,改善抛光质量.其最佳加入量为:1.2~1.8 g/L Cu2+Cu2+、Mg2+最佳比例为1:1.
关键词:
化学抛光
,
铝材
,
金属添加剂
,
铜离子
,
镁离子
,
协同效应
周游
,
姚颖悟
,
吴坚扎西
,
吕千
电镀与涂饰
研究了一种应用于AZ31镁合金的化学抛光工艺.通过考察抛光液组成及工艺参数对镁合金失重和反射率的影响,确定了较佳的抛光工艺条件为:磷酸650 mL/L,丙三醇250 mL/L,柠檬酸0.6 g/L,硫酸铜0.5 g/L,温度50℃,时间3 min.经此条件抛光后的镁合金表面平整光亮,失重为23 g/cm2,反射率为50%,在3.5%(质量分数)NaCl溶液中的腐蚀电位比未抛光时正移0.9 V,腐蚀电流密度下降近一个数量级,耐蚀性提高.
关键词:
镁合金
,
化学抛光
,
反射率
,
耐蚀性
农兰平
,
李金莲
,
巩育军
电镀与涂饰
对铜及铜合金化学抛光工艺进行了研究,考察了低浓度硝酸体系和双氧水体系对铜及其合金的抛光亮度、腐蚀失重以及对环境污染程度的影响.结果表明,低浓度硝酸体系抛光亮度高,适用范围广,对环境的污染较传统三酸体系少,虽然对铜及铜合金有一定的腐蚀,但返工对工件的尺寸影响不大,适用于冰箱、空调器等的蒸发管的抛光.双氧水抛光体系对铜及其合金腐蚀轻微,对环境的污染更少,但成本相对较高,适于对加工尺寸要求严格的铜及铜合金电子元件的化学抛光.
关键词:
铜及铜合金
,
化学抛光
,
硝酸
,
双氧水
马迪
,
徐龙贵
,
李树白
,
胡秀英
,
汪斌
材料保护
如何得到优良的不锈钢表面,同时符合日益严格的环保要求,已经成为当前不锈钢抛光研究的重点问题.回顾了不锈钢抛光技术的历史,介绍了化学抛光技术在不锈钢加工中的应用,探讨了未来国内外不锈钢化学抛光的发展方向.
关键词:
化学抛光
,
不锈钢
,
表面处理
,
环保
,
研究进展
黄俊学
,
张晖
,
杨锦瑜
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.05.023
研究以H2O2为主要氧化剂的化学抛光液对BFe10-1-1铁白铜进行表面化学抛光,考察了光亮剂、缓蚀剂、H2O2稳定剂的种类,化学抛光液各组分的含量,抛光温度以及抛光时间对铜合金抛光效果的影响.优化出抛光液组成及抛光工艺条件:质量分数为30%的H2O2 350 mL/L,浓H2SO450 mL/L,无水乙醇17~20mL/L,OP-10 1 mL/L,苯骈三氮唑(BTA)1 g/L,水余量;在50℃下抛光3~5 min.
关键词:
化学抛光
,
环保型
,
BFe10-1-1
,
铜合金