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用临界钝化电流法和液晶法检测金属氧化物膜的缺陷率

印仁和 , 曹为民 , 李亚君 , 李卓棠 , 荣国斌

金属学报

用临界钝化电流（CriticalPassivationCurrentDensity．CPCD）法和液晶法，研究了不锈钢上Ta2O5，ZrO2的高频溅射膜的缺陷率建立了CPCD法中与薄膜有关的电流密度If与膜厚d之间的关系式：If＝k（1－θ）d．利用液晶的动态散射模型（DynamicScatteringMode，DSM），建立了动态无损伤检测膜缺陷率的新方法，并证明了这两种方法的检测结果有良好的直线关系。

关键词: 临界钝化电流密度法 , DSM , liquid crystal , oxide film , defect