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垂直堆垛InAs量子点材料的分子束外延生长

李树玮 , 小池一步 , 矢野满明

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2004.01.051

用MBE设备以Stranski-Krastanov 生长方式外延生长了5个周期垂直堆垛的InAs量子点, 在生长过程中使用对形状尺寸控制法来提高垂直堆垛InAs量子点质量和均匀性. 样品外延的主要结构是 500 nm 的GaAs外延层, 15 nm的Al0.5Ga0.5As势垒外延层, 5个周期堆跺的InAs量子点, 50 nm的Al0.5Ga0.5As nm 势垒外延层等. 在生长过程中用反射式高能电子衍射仪(RHEED)实时监控. 生长后用原子力显微镜(AFM)进行表面形貌的表征, 再利用光制发光(PL)对InAs量子点进行观测.

关键词: 晶体生长 , 垂直堆垛的InAs量子点 , 分子束外延(MBE) , 光致发光

GaSb/GaAs异质结热光伏电池材料的MBE生长

郝瑞亭 , 郭杰 , 刘颖 , 缪彦美 , 徐应强

人工晶体学报

利用分子束外延方法(MBE)在GaAs (001)衬底上外延生长了GaSb薄膜,并对GaSb薄膜进行了高温退火研究,利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、原子力显微镜(AFM)、Hall效应(Hall Effect)和低温光荧光谱(LTPL)等手段对薄膜的晶体质量、电学性质和光学性质进行了研究.发现直接生长的GaSb膜表面平整,空穴迁移率较高.研究发现30 s、650℃的快速热退火可消除位错等缺陷,显著提高GaSb薄膜的光学质量.

关键词: GaSb , 热光伏电池 , 分子束外延(MBE)

MBE方法在GaAs(001)衬底上外延生长GaSb膜

郝瑞亭 , 申兰先 , 邓书康 , 杨培志 , 涂洁磊 , 廖华 , 徐应强 , 牛智川

功能材料

利用分子束外延方法(MBE)在GaAs(001)衬底上外延生长了GaSb薄膜,利用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、原子力显微镜(AFM)、Hall效应(Hall Effect)和低温光荧光谱(LTPL)等手段对薄膜的晶体质量、电学性能和光学质量进行了研究.发现直接生长的GaSb膜表面平整,空穴迁移率较高.引入GaSb/AlSb超晶格可有效阻断进入GaSb外延层的穿通位错,对应的PL谱强度增强,材料的光学质量变好.

关键词: GaSb , GaAs , 分子束外延(MBE)

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