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Si基太阳电池用SiNx:H薄膜的研究进展

唐煜 , 周春兰 , 贾晓昀 , 王文静

材料导报

SiNx:H薄膜因为具有良好的减反射性质和钝化作用,在晶体硅太阳电池(单晶硅、多晶硅)的研究和生产中得到越来越广泛的应用.介绍了SiNx:H薄膜在硅基太阳电池中的减反射和钝化作用,主要制备方法等研究现状,以及面临的问题和今后的研究趋势.

关键词: 太阳电池 , SiNx , H , 钝化 , 减反射

太阳电池组件上纳米多孔SiO_2减反射膜的制备和增透性能研究

冯成坤 , 刘勇 , 沈辉 , 王东海 , 陈维 , 王海

功能材料

采用溶胶-凝胶法制备纳米多孔SiO_2减反射薄膜,通过对不同制备工艺的探索(如陈化时间、提拉速度)以及所制备的纳米SiO_2薄膜的微观结构的研究,探究SiO_2溶胶特性对薄膜结构的影响以及薄膜纳米结构对其光透过率的影响,寻找最优化的制备工艺制备纳米多孔SiO_2减反射薄膜,进一步提高太阳电池组件上超白玻璃的透过率问题. 结果表明以氨水为催化剂、陈化时间为4天、提拉速度为1.25mm/s的工艺制备减反射薄膜效果最好. 在超白玻璃盖板上镀减反射膜后, 透过率 (400~1100nm)由90%提高到96%,对太阳电池组件应用可进一步增加6%左右的可见光利用.

关键词: 太阳电池 , 减反射 , 纳米多孔 , 二氧化硅

无光污染镀膜玻璃的理论设计

莫建良 , 朱文斌 , 刘锋 , 张溪文 , 韩高荣

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2000.z2.096

本文针对当前普通镀膜玻璃存在的光污染问题,从产生光污染的本质原因出发,介绍了两种目前较行之有效的解决方案,一种是通过增加漫反射和散射的方法来达到消除光污染的目的,另一种是通过减反射的方法来达到消除光污染的目的.希望对彻底解决光污染难题有所帮助.

关键词: 光污染 , 镀膜玻璃 , 镜面反射 , 减反射

溶胶-凝胶法制备用于太阳能电池的SiO2减反射膜

沈军 , 谢志勇 , 吴筱娴 , 欧阳玲 , 肖轶群

稀有金属材料与工程

以正硅酸乙酯为前驱体,氨水、盐酸为催化剂,通过溶胶-凝胶法制备了二氧化硅薄膜.采用提拉法将该二氧化硅薄膜镀在用于太阳能电池组件的低铁玻璃基底上.对薄膜进行了表面处理,薄膜疏水性大大提高,与水的接触角由40°提高到了110°.设计并制备了大面积的样品,400 nm到800 nm的平均透过率增加了5%以上.疏水性和耐刮擦性能达到工业化生产的需要.

关键词: 溶胶-凝胶法 , 减反射 , 疏水性 , 太阳能电池

梯度折射率宽带减反射光伏玻璃研究

刘立强 , 张叔国 , 张国莹 , 牛文贺 , 井敏 , 王晓临 , 王刚

功能材料

采用二次腐蚀法制备了梯度折射率减反射光伏玻璃。SEM分析表明,多孔减反射层的微结构尺度在20~30nm左右,膜层厚度为100~300nm。通过计算模拟,确定了膜层折射率分布形式为Gaussian-like型。制备的梯度折射率减反射光伏玻璃透过率〉96%的带宽超过了1200nm;在390~1022nm波段的透过率〉99%;在350~1084nm的双面反射率〈1%,其中624~922nm的双面反射率低于0.2%。

关键词: 梯度折射率 , 二次腐蚀法 , 减反射 , 光伏玻璃

溶胶-凝胶法制备TEOS-DOS基SiO2疏水减反射膜:溶胶微结构对膜性能的影响

徐耀 , 范文浩 , 章斌 , 吴东 , 孙予罕

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2002.03.009

以乙醇为溶剂,正硅酸乙酯(TEOS,tetraethoxysilane)在氢氧化铵催化下水解缩聚为纳米尺度的无定型SiO2溶胶颗粒,二甲基二乙氧基硅烷(DDS,dimethyldiethoxysilane)在盐酸催化下水解缩聚为线状聚二甲基硅氧链.用混合溶胶在玻璃基片上旋转镀膜,然后于80℃空气气氛下热处理.实验证明通过DDS将疏水的双甲基链引入镀膜胶体,使膜兼具疏水性和减反射性能.利用激光散射粒度分析仪和电子显微镜研究了溶胶颗粒的粒度变化和聚集情况等溶胶微结构,用物理吸附仪研究了膜的孔结构,考察了热处理前后膜的疏水性和透射谱,得到了溶胶微结构与膜性能之间的关联.

关键词: 溶胶凝胶法 , 疏水 , 减反射 , , TEOS , DDS

可控表面结构Si纳米柱阵列的制备及光学特性研究

童亮 , 张朝 , 徐明 , 徐韬 , 魏斌 , 张建华

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2013.增刊(Ⅱ).019

采用纳米球刻蚀法发展针对有序 Si 纳米柱阵列的低成本及可控制备方法,首先运用 Langmuir-Blodgett法在 n-Si(100)片上制备 SiO2粒子单层膜,并以此为掩膜系统考察深度反应离子刻蚀及低损伤的感应耦合等离子体刻蚀对于 Si 纳米柱表面形貌的影响规律,并且通过控制刻蚀参数有效调控 Si 纳米柱阵列的尺寸、分布及表面结构。反射谱测试结果表明,Si纳米柱阵列可以起到显著的减反射作用,且在400~1000 nm的光谱范围内的最优光反射率约为5%。

关键词: Si纳米柱阵列 , 纳米球刻蚀 , 可控表面结构 , 减反射

空间用液晶显示器关键技术研究

董戴 , 沈威 , 张涛 , 沈键 , 康涛 , 刘莉 , 吴华夏

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2009.03.010

按照空间特殊环境的要求,重点设计了液晶显示器的多功能光学窗口、液晶屏加热器、白光LED背光源和光学膜组等关键部件,达到了空间用液晶显示器表面减反射、电磁屏蔽、低温下启动、背光亮度较高和均匀性好、显示效果理想、高可靠性等具体技术要求.

关键词: 加固液晶显示器 , 减反射 , 电磁屏蔽 , 加热器 , 背光

银铜双原子MACE法制备多晶硅陷光结构及其性能的研究?

郑超凡 , 沈鸿烈 , 蒲天 , 蒋晔 , 李玉芳 , 唐群涛 , 吴斯泰 , 陈洁仪 , 金磊

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2017.01.042

采用一步银铜双原子金属辅助化学腐蚀(MACE)法,于室温下在多晶硅表面制备纳米陷光结构,研究了腐蚀时间及银铜摩尔比对多晶硅表面反射率和形貌的影响.用分光光度计测量了多晶硅表面的反射率,用扫描电镜观察了表面形貌.发现银铜双原子MACE法所形成的结构比银单原子或铜单原子MACE 法所形成的结构更加平整且具有更低的表面反射率室温下经过银铜两种金属原子协同催化腐蚀后,在银铜原子摩尔比低于1/10时多晶硅表面形成了纳米多孔状与槽状结构共存的复合结构,在银铜原子摩尔比高于1/5时多晶硅表面形成密集的纳米线结构.研究结果表明,孔状与槽状的复合结构具有良好的陷光效果,当银铜原子摩尔比为1/10,腐蚀时间为180 s时,多晶硅的反射率达到最低,仅为6.23%.

关键词: 黑硅 , 减反射 , 纳米结构 , 金属辅助化学法 , 银铜双原子

多晶硅太阳电池表面激光织构工艺研究

佘鹏 , 曾梦麟

材料导报

采用激光刻蚀,辅以化学溶液腐蚀对多晶硅片进行了表面织构.利用扫描电镜(SEM)、Helios LAB-rc反射率测试仪和Semilab WT2000少子寿命仪对样品进行了表征.结果表明,多晶硅表面经激光织构后表现出很好的陷光效果,反射率降低为8.0%.激光织构使硅片的少子寿命缩短,通过沉积Al2O3钝化薄膜可改善多晶硅片的电学性能.

关键词: 多晶硅太阳电池 , 减反射 , 激光织构

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