邱法斌
,
骆文生
,
张玉
,
刘传珍
,
荆海
,
黄锡珉
液晶与显示
doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2001.03.002
在PECVD法制备a-Si∶H薄膜材料基础上, 以XeCl准分子激光烧结为手段, 对在玻璃衬底上制备多晶硅薄膜材料的工艺条件进行了探索, 利用XRD、 SEM、 Raman光谱等分析测试手段对所制备材料的结构特征进行了表征. 较高的衬底温度、合适的激光能量密度和脉冲频率, 有利于获得高质量的多晶硅薄膜.
关键词:
多晶硅膜
,
准分子激光烧结
,
玻璃衬底
,
制备
