吴婧娴
,
栾晓新
,
李清波
,
宫福强
,
陈轩
,
张猛
,
包姣灵
环境化学
doi:10.7524/j.issn.0254-6108.2016.09.2015111704
本研究于2014年10月至11月间对大连市8处污水处理厂（ W1—W8）入水、出水中环状挥发性甲基硅氧烷（ Cyclic volatile methylsiloxanes，cVMSs）浓度进行了调查，采用超声辅助液液萃取及气相色谱?质谱联用检测方法测定了污水样品中六甲基环三硅氧烷（ D3）、八甲基环四硅氧烷（ D4）、十甲基环五硅氧烷（ D5）、十二甲基环六硅氧烷（ D6）的浓度水平．结果表明，入水D3、D4、D5、D6检出率分别为92％、88％、71％、75％；出水检出率分别为61％、96％、63％、58％．入水、出水ΣcVMSs平均浓度分别为1135±1600、433±437 ng·L－1，且入水、出水平均浓度均为D5最高，D3最低．入水D3与D4、D6，D4与D5浓度相关性达到5％的显著水平（R2＝0．80、0．83、0．82），D3与D5及D5与D6浓度相关性达到1％的显著水平（ R2＝0．91、0．85）；出水D4与D6浓度相关性达到1％的显著水平（R2＝0．93）；入水量与入水D3—D6浓度相关性未达到5％显著性水平．cVMSs去除效率范围为28％—100％，对D3—D6去除效率最高的二级处理工艺分别为BAF、BAF、A／O、SBR工艺，去除效率分别为87．3％、69．1％、99．5％、95．1％；最低的二级处理工艺分别为A／O、SBR、SBR、A／O工艺，去除效率分别为68．3％、30．1％、54．1％、72．0％．
关键词:
污水处理厂
,
甲基硅氧烷浓度
,
入水
,
出水
,
去除效率
潘龙
,
王焕然
,
姚尔人
,
王新兵
工程热物理学报
物体入水过程中会受到水体的强烈冲击作用,这种强烈冲击会对高速入水物体的结构产生破坏,因此对入水过程中缓冲机理的研究是物体入水问题研究的重点.本文基于气泡动力学及流体力学提出了采用圆柱体头部喷气方法缓冲入水冲击作用的构想,研究其对入水冲击的影响规律,通过建立头部喷气平头圆柱体入水过程的数学模型,揭示了其对入水冲击力的缓冲机制,比较了物体直接入水和头部喷气入水所受冲击力的大小,并利用数值模拟方法进行了验证.
关键词:
入水
,
头部喷气
,
冲击压强
