程伟明
,
李佐宜
,
杨晓非
,
林更琪
,
晋芳
,
孙翔
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2006.04.002
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了NdTbCo/Cr非晶垂直磁化膜.探讨了溅射功率与溅射时间对薄膜磁性能的影响,发现当溅射功率为250 W,溅射时间为4 min时,垂直膜面方向矫顽力为272.8 kA·m-1,剩磁矩形比达到0.801,可以较好地满足高密度垂直磁记录的要求.研究了 Nd掺杂对薄膜磁性能与磁光性能的影响,发现随着Nd掺杂量的增多,薄膜的矫顽力从413.8下降为210.9 kA·m-1,饱和磁化强度与克尔旋转角则分别从144 kA·m-1和0.2720°上升为252 kA·m-1和0.3258°.温度对NdTbCo/Cr薄膜克尔旋转角的影响也与Nd的掺杂量密切相关.
关键词:
射频磁控溅射
,
非晶垂直磁化膜
,
矫顽力
,
剩磁矩形比
,
饱和磁化强度
,
克尔旋转角
程伟明
,
李佐宜
,
杨晓非
,
黄致新
,
鄢俊兵
,
李震
,
程晓敏
,
林更琪
稀有金属材料与工程
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了TbFeCo/Pt非晶垂直磁化膜,研究了Pt底层对TbFeCo薄膜磁性能与磁光性能的影响.结果表明:具有微小颗粒凹凸结构的Pt底层可以显著增大TbFeCo薄膜的垂直磁各向异性场与矫顽力,改善薄膜的磁光温度特性.
关键词:
射频磁控溅射
,
Pt底层
,
TbFeCo/Pt非晶垂直磁化薄膜
,
矫顽力
,
克尔旋转角
