赵雷
,
左玉华
,
李传波
,
成步文
,
罗丽萍
,
余金中
,
王启明
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2006.01.002
利用UHV/CVD系统,在一个相对较低的温度500℃下,研究了Si1-xGex层中的Ge含量与生长条件之间的关系,此时的Si1-xGex层处于一种亚稳的状态.并直接在Si衬底上生长制备了10个周期的3.0 nm-Si0.5Ge0.5/3.4 nm-Si多量子阱.拉曼谱、高分辨显微电镜和光荧光谱对其结构和光学性能进行的表征表明这种相对较厚的Si0.5Ge0.5/Si多量子阱结构基本上仍是近平面生长的,内部没有位错,其在电学和光学器件上具有潜在的应用.
关键词:
UHV/CVD
,
拉曼测量
,
光荧光
,
Si0.5Ge0.5
董雷
,
张瑞康
,
江山
,
赵圣之
,
刘水华
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2010.03.009
本文详细研究了采用Cl2/H2刻蚀气体时,ICP刻蚀系统对InP/InGaAsP材料表面损伤的影响.通过设计特殊结构的InP/InGaAsP多量子阱结构,测量刻蚀区域及非刻蚀区域的光荧光强度的变化,并结合高斯深度分布模型对刻蚀损伤进行定量研究.详细研究ICP刻蚀系统中的压强、ICP功率、RF功率以及Cl1/H2刻蚀气体组分对损伤程度的影响.基于这些结果优化得到一组低损伤参数,最终实现刻蚀损伤深度小于16nm.
关键词:
等离子体刻蚀
,
干法刻蚀损伤
,
感应耦合等离子体
,
光荧光
谭春华
,
范广涵
,
李述体
,
周天明
,
黄琨
,
雷勇
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2005.03.025
低压MOCVD方法生长了掺Si与不掺Si的AlGaInP/GaInP多量子阱结构,运用X射线双晶衍射与光荧光技术研究了掺Si对量子阱性能的影响.测试结果表明掺Si使量子阱的生长速度增加,掺Si量子阱的光荧光强度比未掺Si量子阱的光荧光强度改善了一个数量级.
关键词:
光电子学
,
X射线双晶衍射
,
金属有机化学气相沉积
,
量子阱
,
光荧光
周甫方
,
黄远明
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2007.04.025
在18至300 K的温度范围内,对聚乙炔的一种单取代衍生物的荧光特性进行了研究.在室温时,这种聚乙炔的单取代衍生物的薄膜能够发出强的绿色荧光,其荧光光谱的主要荧光峰位于510 nm,而它的两个次要荧光峰分别位于440 nm和380 nm.位于510、440 nm的两个荧光峰分别是该高分子材料所形成的激发缔合物的主要和次要发光峰,而位于380 nm的荧光峰是单条高分子链的发光峰.当温度从300 K降到18 K的过程中,原荧光光谱发生中的激发缔合物的主要发光峰从510 nm逐渐红移到570 nm,而其激发缔合物的次要发光峰逐渐消失;与此同时,该高分子材料的380 nm的荧光峰逐渐与主荧光峰分开.这些光谱方面的变化可用该高分子在低温下所发生的结构上的变化来解释.
关键词:
光电子学
,
有机发光材料
,
光荧光
,
低温效应
,
单取代聚乙炔
薛清
,
黄远明
量子电子学报
doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2007.06.017
在室温下,对单取代聚乙炔(PACz-1)和两种双取代聚乙炔[PACz-2(m=3)、PACz-2(m=9)]的荧光特性和电子结构进行了研究.每种聚乙炔的支链上有一个咔唑单元.虽然它们的分子结构不同,但它们的稀溶液却有相同的吸收峰和强的绿色荧光发射峰,并且它们的吸收谱和发射谱很相似.当溶液的浓度增大到～1×10-3M时,发现有强的绿色荧光发射,峰位位于475 nm.运用Huckel扩展紧束缚计算方法,从理论上计算了带咔唑支链的聚乙炔的电子结构.结果表明单取代聚乙炔和两种双取代聚乙炔的吸收峰、低浓度下的360 nm紫外光发射峰与高浓度下的475 nm的绿色荧光峰都是由于聚乙炔支链上咔唑生色团引起的.
关键词:
光电子学
,
有机发光材料
,
光荧光
,
高分子共轭的主链
