郑耀臣
,
陈芳
,
王慧敏
,
任冬雪
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2007.05.029
以环氧缩水甘油醚、1,6-己二酸、丙烯酸、KH-550处理的纳米SiO2(HTSi-3)为主要原料合成了光敏稀释剂(AD).环氧丙烯酸酯(EA)、AD、光引发剂和适量助剂配合制成光固化材料,测试了其光聚合反应特征、力学性能和耐热性.结果表明,由含HTSi-3的AD改性EA体系有较快的光固化速度和较高的光固化程度(DOC).另外,用AD对EA改性后,提高了光固化材料的拉伸强度、冲击强度及耐热性.
关键词:
纳米SiO3
,
光敏稀释剂
,
光固化材料
,
纳米复合材料
