马小波
,
黄剑锋
,
罗宏杰
,
曹丽云
,
贺海燕
,
吴建鹏
稀有金属材料与工程
通过对SmS薄膜的结构特点、制备工艺、相变原理和应用领域等方面的综述,提出并设计了水热法、仿生法、溶胶-凝胶法以及电沉积法等制备SmS薄膜的几种湿化学方法,并展望了SmS薄膜今后的研究和发展趋势.
关键词:
SmS
,
全息记录
,
光学薄膜
,
研究进展
马小波
,
黄剑锋
,
罗宏杰
,
曹丽云
,
贺海燕
,
吴建鹏
稀有金属材料与工程
通过对SmS薄膜的结构特点、制备工艺、相变原理和应用领域等方面的综述,提出并设计了水热法、仿生法、溶胶-凝胶法以及电沉积法等制备SmS薄膜的几种湿化学方法,并展望了SmS薄膜今后的研究和发展趋势.
关键词:
SmS
,
全息记录
,
光学薄膜
,
研究进展
徐亮
,
涂建军
,
戴峰
,
张乐
,
张其土
材料科学与工程学报
光学显示仪器前的镜片需要通过镀膜来对特定波段形成高反射,国内绝大多数的光学显示镜片还是玻璃,本文以聚碳酸酯(PC)镜片作为基底,采用真空镀膜技术,在聚碳酸酯(PC)镜片上镀高反射膜,研究了不同膜系结构(层数不同)的反射膜对特定波段的反射效果.研究结果表明,采用了5层膜的设计,PC在可见光区的400nm波段到700nm波段的最高反射率从9.5％上升到85％.PC在特定波段的反射率得到了明显的提高.
关键词:
PC
,
光学薄膜
,
多层反射膜
,
反射率
,
膜系设计
黄剑锋
,
马小波
,
曹丽云
,
夏昌奎
,
陈东旭
,
荔亮亮
,
刘勇
材料导报
SmS光学薄膜是一种可用于全息记录的薄膜材料,由于其特殊的结构特点,在全息记录、光学开关、压敏元件等领域具有广阔的应用前景.通过对SmS薄膜的结构特点、制备方法、相变原理和应用领域等方面的综述,提出并设计了水热法、仿生法、溶胶-凝胶法及电沉积法等制备SmS薄膜的几种湿化学方法,展望了SmS薄膜今后的研究和发展趋势.
关键词:
SmS
,
全息记录
,
光学薄膜
,
研究进展
马亚林
,
石健
,
李绪诚
,
杨利忠
,
邓朝勇
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2013.23.010
采用直流磁控溅射法在不同衬底温度下(27、150、300、450和750℃)制备 Ta2 O5薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见光分光光度计对薄膜的结构、表面形貌和光学性质进行分析研究。实验结果表明,当衬底温度为450℃时,薄膜开始结晶。低于450℃,薄膜为无定形态,光学透过率随着衬底温度的升高而升高,在可见光区域最大透过率为85％。薄膜结晶生成晶粒,会对通过的光束产生散射,降低透过率,光学性能下降。这些结果说明衬底温度和薄膜材料的结构、结晶转变温度及光学性质密切相关。
关键词:
磁控溅射
,
Ta2O5
,
光学薄膜
,
结晶
,
透过率
徐键
,
董建峰
,
杨任尔
,
徐清波
稀有金属材料与工程
以锆和硅的醇盐为原料,合成了平面波导用紫外光敏性ZrO2-SiO2有机-无机杂化溶胶-凝胶光学材料,用旋涂法在单晶硅片上制备了其光学薄膜.用棱镜耦合仪、FTIR红外光谱仪和原子力显微镜(AFM)等测试了薄膜的厚度和折射率、结构基团和薄膜表面粗糙度,并用棱镜耦合法测试了其平板型光波导的光传输损耗.结果表明:该杂化材料可用于制备厚达约20 μm、折射率在1.45～1.50间可调、表面粗糙度小(约0.2 nm)的均匀光学薄膜;以这些杂化薄膜为导光层和衬底层的平板型光波导的光传输损耗小于1dB/cm.
关键词:
溶胶-凝胶
,
光学薄膜
,
有机-无机杂化材料
,
光敏材料
,
ZrO2-SiO2
李海兵
,
徐勇军
,
蔡其文
,
涂伟萍
,
廖俊旭
中国表面工程
doi:10.11933/j.issn.1007-9289.2016.03.005
采用磁过滤阴极真空弧沉积(FCVAD)与磁控溅射(MS)两种技术在玻璃上制备厚度分别为75 nm和165 nm的Glass/Al高反射薄膜,利用Lambda 950分光光度计、扫描电子显微镜、原子力显微镜、附着力测试仪、摩擦试验机和加速老化试验箱分别表征薄膜的反射率、表面形貌、粗糙度、附着力、耐摩擦和耐老化性能,通过薄膜性能评估分析两种技术制备高反射膜性能的差异.结果表明:在双方优化工艺下,FCVAD制备的薄膜表面形貌和附着力优于MS薄膜;FCVAD制备的75 nm和165 nm薄膜反射率比同厚度MS薄膜高出3.3％～4.2％;75 nm厚的薄膜方均根粗糙度明显小于同厚度的MS薄膜;FCVAD制备的75 nm薄膜老化后反射率仅下降1.2％,而MS同厚度薄膜反射率下降了3.3％～4％.说明FCVAD在制备高反射膜方面比磁控溅射更有优势.
关键词:
光学薄膜
,
物理气相沉积
,
磁过滤阴极真空弧沉积
,
磁控溅射
,
高反射膜
马小波
,
黄剑锋
,
曹丽云
,
贺海燕
,
吴建鹏
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2007.02.015
以SmCl3·6H2O和Na2S2O3·5H2O为原料,采用电沉积法在单晶硅(100)和玻璃基板制备了SmS光学薄膜.采用XRD、AFM和紫外可见光分光光度计对薄膜进行了表征.研究了[Sm3+]/[S2O32-]、溶液的pH值对于薄膜的物相的影响.结果表明:在[Sm3+]/[S2O32-]=1:2,控制溶液pH值为4.50以及沉积1h的条件下,可制备出70nm厚单一晶相且表面比较平整的SmS薄膜,薄膜具有(331)方向的取向性.紫外光谱测试表明所制备的SmS薄膜具有290～300nm的紫外吸收特性,薄膜的禁带宽度约为3.6eV.
关键词:
SmS
,
光学薄膜
,
电沉积
黄剑锋
,
贺海燕
,
人工晶体学报
以SmCl3·6H2O和Na2S2O3·5H2O为原料,采用电沉积法在ITO玻璃基板制备了SmS光学薄膜.采用XRD、AFM和紫外可见光分光光度计对薄膜进行了表征.研究了沉积电压和热处理温度对于薄膜的物相组成、显微结构和光学性能的影响.结果表明:在n(S):n(Sm)=4:1,溶液pH值为3.0,沉积电压为10 V以及热处理温度为400℃的条件下,可制备出主晶相为SmS且表面比较平整的薄膜.热处理后薄膜的禁带宽度增加.随着沉积电压的增加,SmS逐渐由金属相向半导体相转变,薄膜的禁带宽度相应地变大.
关键词:
SmS
,
光学薄膜
,
恒电压
