李宝铭
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吴洪才
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刘效增
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高潮
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孙建平
高分子材料科学与工程
利用脱氯化氢反应制备π共轭高分子聚[2-甲氧基-5-(3′-甲基)丁氧基]对苯乙炔 (MMB-PPV).采用能量为15 keV～35 keV,剂量为3.8×1015ions/cm2～9.6×1016ions/cm2的低能氮离子(N+)对MMB-PPV薄膜进行离子注入改性研究.红外光谱显示,离子注入后分子的特征峰未发生显著变化,而在3442 cm-1、1622 cm-1等处出现N-H键的振动峰;随着注入能量、剂量的增加,薄膜的紫外-可见吸收边向长波方向移动,π共轭高分子中激发态和基态间的光学禁带宽度变窄;薄膜的表面电导率随着注入能量、剂量的增加迅速提高,当注入能量为35 keV,剂量为9.6×1016ions/cm2时,表面电导率高达3.2×10-2S/cm,比本征态提高7个数量级以上.
关键词:
离子注入
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聚[2-甲氧基-5-(3′-甲基)丁氧基]对苯乙炔
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表面电导率
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光学禁带宽度
张志刚
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吴洪才
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易文辉
高分子材料科学与工程
通过3-丁酰基吡咯单体分别与对硝基苯甲醛和香草醛的缩聚反应,成功合成了两种新型可溶性聚吡咯甲烯衍生物--聚[(3-丁酰基吡咯-2,5-二)对硝基苯甲烯](PBPNBE)和聚[(3-丁酰基吡咯-2,5-二)(3-羟基-4-甲氧基)苯甲烯](PBPHMBE).采用1H-NMR、FT-IR和UV-Vis-NIR光谱对目标产物的分子结构进行了详细的表征.通过测试计算得到聚合物PBPNBE和PBPHMBE的光学禁带宽度分别为1.84eV和1.48eV.采用后向简并四波混频技术研究了聚合物薄膜的三阶非线性光学性能.结果表明,聚合物PBPNBE和PBPHMBE具有大的三阶非线性极化率,其值分别为2.10×10-8esu和8.65×10-8esu.
关键词:
聚[(3-丁酰基吡咯-2,5-二)对硝基苯甲烯]
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聚[(3-丁酰基吡咯-2,5-二)(3-羟基-4-甲氧基)苯甲烯]
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合成与表征
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光学禁带宽度
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简并四波混频
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三阶非线性极化率
刘振兴
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陈俊芳
,
陈兴来
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孙辰
材料导报
采用射频磁控溅射方法,在Ar-N2混合气中Si衬底上生长Zn3N2薄膜.研究了氮分压和衬底温度对样品的光透明性、微结构、表面形貌以及光学性质的影响,同时研究了样品在空气氛围下保持20天后的性能,并与新镀薄膜进行比较.结果表明,Zn3N2薄膜直接光学带隙可由氮分压调节的范围为1.18～1.50 eV,氮分压比例增大,薄膜的光透明性减弱,并且对暴露在空气中20天以后的薄膜进行测试发现,薄膜的光透明性明显增强,随着衬底温度的升高,生长的薄膜择优取向增多,晶粒尺寸逐渐变大.
关键词:
磁控溅射等离子体
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光学禁带宽度
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氮化锌
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光学特性
