单玉桥
,
于晓中
,
李力
,
田晓飞
电镀与涂饰
doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2005.06.002
利用直流磁控溅射法,在铝基片、玻璃基片上制备了钽膜.研究了氩气压力、阴极电流、系统本底真空度、溅射时间等工艺条件对钽膜性能及厚度的影响,并对钽膜的物理性能及电学性能进行了研究.结果表明,钽镀层的厚度主要与钽靶功率、氩气分压及溅射时间有关;当氩气压力、电流一定时,钽镀层的厚度与溅射时间近似地成正比关系.利用3 A/(8 min)、4 A/(6 min)、5 A/(3 min)各5片铝基片镀钽的样品制成了医用CT检测器信号接受盒,获得的X-ray电信号分别为30万、32万、34万单位,达到并超过了国际同类产品的技术指标.
关键词:
磁控溅射
,
直流
,
镀钽
,
医用CT
,
信号接受盒
