胡钢
,
滕飞
,
何海平
材料保护
为改善大理石在酸雨和酸雾环境下的耐蚀性能，运用仿生合成方法在大理石表面制备了一层壳聚：糖／二氧化硅（CS／SiO2）保护膜。通过扫描电子显微镜和红外光谱对膜的形貌结构进行了表征，并对膜的基本性质进行了测试。结果表明：CS／SiO2膜以球形颗粒沉积在大理石表面，保持了其原有的透气性，减小了其吸水性；膜的耐酸性能优越，显著提高了石材的耐酸性，大理石表面有无CS／SiO02，都具有良好的耐碱、盐腐蚀性能；膜与石材基体结合良好，具有良好的抗冻融和耐热性能。
关键词:
保护膜
,
仿生合成
,
壳聚糖(CS)
,
SiO2膜
,
大理石
,
耐酸碱盐性能
,
物理性能
陈文君
,
桂赤斌
,
周建奇
兵器材料科学与工程
doi:33-1331/TJ.20111104.1533.002
为减少手工电弧焊焊条在舰船焊接及野外施工时,因吸潮而引起的焊缝扩散氢的增加,对减压蒸发月桂酸制备焊条抗吸潮膜的方法进行研究.将烘干的焊条放入溶有一定量月桂酸的石油醚溶液中,用减压蒸发法进行处理,使焊条表面形成具有抗吸潮性能的薄膜.对焊条进行熔敷金属扩散氢测试,并对其保护膜表面形貌进行分析.结果表明,从溶液中直接取出的焊条表面容易形成“蘑菇”结构,用减压蒸发法所得薄膜“蘑菇”状结构明显减少.将焊条烘干后迅速取出放入石油醚中进行反应,然后进行减压蒸发可使“蘑菇”状结构几乎消失.抗吸潮焊条扩散氢含量与原焊条含量相同,且在8h内几乎保持不变.
关键词:
吸潮
,
保护膜
,
焊条
,
减压蒸发
,
月桂酸
许恒志
,
唐伟忠
,
于盛旺
,
胡浩林
,
惠大圣
,
吕反修
功能材料
用射频反应磁控溅射方法制备了MeNx(Me=Ti、Zr、Hf)薄膜,研究了在富N2条件下不同的N2/Ar流量比对薄膜结构和光学性能的影响.掠角X射线衍射的分析结果表明,所制得的富氮的TiNx薄膜主要由TiN所组成,而富氮的ZrNx、HfNx薄膜则具有非晶态的结构.用分光光度计和傅里叶红外仪对薄膜的光学透过率的测试表明,TiNx薄膜在可见光及红外波段基本上是不透的,而ZrNx、HfNx薄膜在相应的波长范围,特别是在红外波段则有较高的光学透过率.比较不同N:/Ar流量比条件下制备的MeNx(Me=Zr、Hf)薄膜发现,ZrNx、HfNx两种薄膜的结构和光学性能没有发生显著的变化.最后,在ZnS衬底上制备的HfNx膜,在不降低ZnS的光学透过率的情况下,显著地提高了ZnS的表面硬度.因此,HfNx薄膜有望成为红外光学窗口的一种新的保护膜材料.
关键词:
磁控溅射
,
红外波段
,
透过率
,
保护膜
刘晓龙
,
熊守美
稀有金属材料与工程
研究了以HFC-134a气体为基的混合气体的保护效果,形成的保护膜形貌,结构及成分;分析了各种元素在保护膜中所起的作用.实验研究表明:保护膜由MgO和MgF2混合生成,厚度一般在0.1μm～0.6 μm,且保护膜在厚度方向上成分均匀;在保护膜和基体之间存在大量MgF2的聚集颗粒,这些颗粒在表面呈凹陷状.
关键词:
HFC-134a
,
气体
,
保护
,
保护膜
,
镁
康志娟
,
王奎涛
,
赵海栋
,
吴海霞
,
鲁楠
,
孙亚伟
,
邢士辉
腐蚀与防护
采用静态失重法试验了常温下A3钢、铜、铝、不锈钢在50 mg/L、100 mg/L、200 mg/L和400 mg/L的二氧化氯溶液中的腐蚀情况.结果表明,在200 mg/L二氧化碳消毒体系下,铝为轻度腐蚀,铜为中度腐蚀;在400 mg/L二氧化氯消毒体系下,A3钢为重度腐蚀,不锈钢为轻度腐蚀.并分析了腐蚀的原因,为二氧化氯的广泛应用提供基础.
关键词:
二氧化氯
,
腐蚀
,
保护膜
,
孔蚀
王德伟
,
李友芬
耐火材料
doi:10.3969/j.issn.1001-1935.2008.06.005
以ZrO2、鳞片石墨、ZrB2、Al粉、Si粉为主要原料,以热固性酚醛树脂为结合剂,制成石墨、Al粉和Si粉的质量分数分别固定为17%、3%和3%,硼化锆的加入量(质量分数)分别为0、5%、10%、15%、20%和30%,尺寸为40 mm×4 mm×4 mm的ZrO2-C-ZrB2复合材料样坯,先在180℃处理24 h,再在还原气氛中于1 200℃保温6 h煅烧,最后在空气气氛中进行恒温氧化试验,氧化温度分别为800、900、1 000、1 100和1 200 ℃保温30min,测量试样氧化后的质量变化率和氧化层厚度,采用SEM分析氧化后试样断面及氧化层的显微结构.结果表明:1)随着ZrB2加入量从0增加到30%,在800～1 200℃氧化后试样的氧化层厚度逐渐减小;2)ZrB2氧化生成的B2O3在试样表面形成低熔点相的保护膜,抑制了石墨的氧化,提高了ZrO2-C-ZrB2材料的抗氧化性.
关键词:
硼化锆
,
锆碳材料
,
抗氧化性
,
低熔相
,
保护膜
刘枫
,
沈军
,
秦仁喜
,
吴广明
,
肖轶群
,
吴兆丰
材料导报
报道了采用真空化学气相沉积法制备的聚对二甲苯薄膜和采用溶胶-凝胶技术制备的二氧化硅增透膜,通过提拉镀膜法在聚对二甲苯薄膜表面镀制SiO2增透膜得到的双层膜可应用于KDP晶体的增透保护膜.用FT-IR、紫外-近红外分光光度计对聚对二甲苯/SiO2薄膜的结构和光学性能进行了表征和测试.双层膜的透射率达到92%以上,激光损伤阈值为8J/cm2.镀有保护膜的KDP晶体在相对温度稳定的环境下放置半年多后透射率基本保持不变.
关键词:
聚对二甲苯
,
SiO2增透膜
,
KDP晶体
,
保护膜
