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Mo/SiO_2软X射线多层膜反射镜的界面分析

王凤平 , 王佩璇 , 方正知 , 崔明启 , 姜晓明 , 马宏骥

金属学报

用X射线衍射的动力学理论对磁控溅射法制备的Mo／SiO2多层膜低角X射线衍射谱进行拟合，定量分析了膜层的周期结构和界面粗糙度．同时，用Auger电子能谱证实了多层膜成分的周期性以及比较明晰的层界面随样品厚度的增加，界面粗糙度增加．

关键词: Mo／SiO_2多层膜 , magnetron sputtering , interfacial roughness , low angle X-ray diffraction , AES