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PECVD技术制备低折射率光学薄膜

胡九龙 , 杭凌侠 , 周顺

表面技术

采用等离子体增强化学气相沉积法在硅片上沉积含氟氧化硅薄膜,用椭偏仪测量薄膜的光学参数,研究了在固定抽速和真空度自动调节情况下C2F6气体流量的变化对薄膜折射率、消光系数、沉积速率的影响.实验表明在温度300℃、射频功率200 W、压力20 Pa,SiH4 60 sccm,N2O4 40 sccm,C2F6 30 sccm的工艺参数下沉积的薄膜在550 nm处折射率为1.37,消光系数4×10-4,可作为光学减反膜的材料.

关键词: 薄膜 , PECVD , 低折射率 , SiOF

溶胶-凝胶法制备低折射率和低介电常数介孔二氧化硅薄膜

沈军 , 欧阳玲 , 林雪晶 , 谢志勇 , 罗爱云

稀有金属材料与工程

采用溶胶-凝胶技术,蒸发诱导自组装法(EISA)工艺制备了二氧化硅透明有序介孔薄膜.以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)作为模板剂,正硅酸乙酯(TEOS)为硅源前驱体,基片采用双面抛光的硅片,利用提拉法制备薄膜.经过表面修饰剂六甲基二硅胺烷(HMDS)修饰后,薄膜具有疏水性能,而且薄膜的二氧化硅骨架结构更稳定.由椭偏仪测得热处理后的薄膜的折射率低至1.18,而薄膜的介电常数为2.14.

关键词: 介孔薄膜 , 溶胶-凝胶 , 低折射率 , 低介电常数

低折射率UV光纤涂料的制备及性能研究

营飞 , 王木立 , 顾斌 , 马智俊 , 张东阳 , 狄志刚 , 朱东

涂料工业

以甲基丙烯酸十二氟庚酯、丙烯酸六氟丁酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸、甲基丙烯酸缩水甘油酯为主要原料合成了低折射率含氟丙烯酸树脂(FA).通过红外光谱对FA的结构进行了表征,研究了各原料对FA性能的影响.以FA树脂为主体,配合含氟活性稀释剂、多官能活性稀释剂、光引发剂制备了折射率低于1.378 0的紫外光固化光纤涂料,分析了各组分对涂料外观、折射率、黏度、固化速度及力学性能的影响.

关键词: 光固化 , 光纤涂料 , 含氟丙烯酸树脂 , 低折射率

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