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锗表面二维亚波长结构的反应离子刻蚀制备

李阳平 , 陈海波 , 刘正堂 , 武倩 , 郑倩 , 张淼 , 徐启远

材料科学与工艺

为了获得具有金字塔结构的二维亚波长结构表面，提高其高宽比，用掩模曝光光刻及反应离子刻蚀技术，以SF6和02为反应气体，在Ge衬底上制备了二维亚波长结构，用扫描电镜对刻蚀图形的形貌进行了观察，研究了功率、气压、气体流量及掩模图形对刻蚀图形的影响，结果表明：刻蚀图形腰部被优先刻蚀，形成凹陷的侧壁轮廓；0...

关键词: 锗 , 光刻 , 反应离子刻蚀 , 亚波长结构 , 掩模