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闫志巧 , 熊翔 , 肖鹏 , 黄伯云
功能材料
Ta2O5是重要的介电材料和光波导材料.从前驱体的选择方面综述了化学气相沉积法制备Ta2O5薄膜的研究进展,说明了五卤化钽和Ta金属有机化合物对CVD过程的影响,对这两类前驱体的优缺点进行了比较和评述,讨论了Ta2O5的生成机理,并对其发展方向作了简要的展望.
关键词: 化学气相沉积 , Ta2O5 , 薄膜 , 五卤化钽 , 金属有机化合物
