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用正电子湮没技术研究Nb在TiAl合金中的掺杂效应

张兰芝 , 王宝义 , 王丹妮 , 魏龙 , 林均品 , 王文俊

金属学报

电子湮没寿命谱(PALS)和符合多普勒展宽(CDB)技术研究了不同含量的Nb元素对Ti–49Al合金的掺杂效应．研究结果表明：低含量掺杂时，Nb原子主要偏聚在合金晶界缺陷处，提高了晶界位置的自由电子密度，有利于改善合金的室温韧性；而较高含量的Nb掺杂时，由于形成了新的晶体结构，合金基体及晶界处的自由电子密度减小，导致合金的脆性增加．

关键词: 正电子湮没寿命 , coincidence Doppler broadening , null