蓝芳
,
肖波
,
曹聪蕊
,
蒋晓东
,
袁晓东
,
江波
功能材料
采用溶胶-凝胶(sol-gel)法,以正硅酸乙酯TEOS/甲基三乙氧基硅烷(MTES)为先驱物,浓盐酸为催化剂,制备了掺杂不同三氯化钛(TiCl3)浓度的SiO2/MTES复合薄膜.采用荧光分光光度计、扫描探针显微镜、红外光谱仪、X光衍射仪等仪器对膜层性质进行了分析.结果表明,掺杂4%、3%、2%、1%TiCl3的SiO2/MTES复合薄膜分别在250nm附近有一弱激发峰,294nm附近有一强激发峰,在393nm附近出现一强发射峰;掺杂3%的复合薄膜荧光发射强度达到值最大.与Ti3+掺杂的常规SiO2薄膜比较,Ti3+掺杂的SiO2/MTES复合薄膜的荧光强度更稳定.
关键词:
三氯化钛
,
甲基三乙氧基硅烷
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二氧化硅薄膜
,
溶胶-凝胶
辛崇飞
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彭诚
,
吴建青
材料科学与工程学报
采用溶胶-凝胶工艺在碱催化条件下制备了多孔结构的纳米SiO2薄膜,研究了不同醇硅比对溶胶体系的粒度分布、薄膜折射率以及透过率的影响。用纳米粒度分析仪测试了溶胶的颗粒分布,用紫外-可见-近红外分光光度计、椭偏仪、原子力显微镜（AFM）、扫描电子显微镜（SEM）测试了薄膜的光学性能、折射率、膜厚和显微形貌等。结果表明：随着醇硅比的增大,溶胶体系粘度下降,凝胶时间延长,颗粒度下降,折射率有升高的趋势;制备的增透玻璃膜层折射率为1.24,可见光透过率达到98.22%。
关键词:
溶胶-凝胶
,
二氧化硅薄膜
,
减反膜
,
太阳能玻璃
,
醇硅比
席俊华
,
刘永强
,
杨凌霞
,
季振国
材料科学与工程学报
设计了一种外置式电感耦合等离子增强化学气相沉积装置,并利用该装置在n型硅片上低温沉积了SiO2薄膜.通过扫描电子显微镜(SEM)、傅立叶变换红外吸收谱(FTIR)等对生长的薄膜进行表征.SEM测试结果表明,利用该装置沉积的SiO2薄膜表面平整,薄膜均匀性好；根据FTIR图中Si-O峰的横向与纵向光学声子吸收峰的分析发现,沉积功率越大,薄膜越疏松；等离子体区域内不同位置沉积的薄膜均匀,能够用于大规模、大面积的工业生产.此外,为了方便地获知SiO2薄膜的厚度,我们推导出了50W的功率下,薄膜厚度随沉积温度、沉积时间变化的经验公式.
关键词:
二氧化硅薄膜
,
电感耦合
,
等离子增强化学气相沉积
冯丽萍
,
徐新
材料开发与应用
doi:10.3969/j.issn.1003-1545.2005.03.010
用射频磁控反应溅射法,以高纯Si为靶材,高纯O2为反应气体,在白宝石上制备SiO2薄膜.对影响薄膜生长的工艺参数进行了分析,测试了薄膜的成分,并研究了薄膜的红外光学性能.结果表明,制备的薄膜中Si和O形成SiO2化学键,计算出的O与Si的原子比接近2:1,采用射频磁控反应溅射法在白宝石上能够沉积出SiO2薄膜.制备出的SiO2薄膜对白宝石衬底有较好的增透作用.
关键词:
磁控反应溅射
,
白宝石
,
二氧化硅薄膜
陈涛
,
席珍强
,
杨德仁
,
阙端麟
材料热处理学报
doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2007.01.002
通过傅立叶红外吸收光谱分析了不同温度和时间下在硅衬底上快速热氧化(RTO)处理后的样品.结果表明,在处理相同的时间下,随着热处理温度的升高,二氧化硅薄膜的非对称伸展振动模式峰强度增强,其峰位发生了偏移.在800℃下制备二氧化硅薄膜的热氧化动力学规律不同于1200℃下的情况.在800℃下,快速热氧化制备的薄膜中含有非化学计量比的氧化硅(SiOx),SiOxDE再氧化使得薄膜的氧化生长速率不断增加,同时也是导致红外吸收光谱中ASM峰位向长波数方向偏移.在1200℃下,快速热氧化制备的薄膜成份是二氧化硅,这种薄膜具有良好的介电性能.
关键词:
快速热氧化(RTO)
,
二氧化硅薄膜
,
傅立叶红外吸收光谱
朱春燕
,
王稳奇
,
郗华
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2010.04.003
采用反应磁控溅射的方法沉积二氧化硅薄膜,研究了二氧化硅薄膜的光学特性,并与用反应离子束溅射方法沉积二氧化硅薄膜进行了对比.实验结果表明:用反应磁控溅射法沉积二氧化硅薄膜,薄膜的折射率、沉积速率主要受反应气体(氧气)浓度的影响,氧气含量超过15%(体积分数)后,溅射过程进入反应模式,沉积速率随氧气浓度增加而降低;入射光波长为630 nm时,薄膜折射率为1.50.对比2种薄膜沉积方法后确定,在二氧化硅薄膜工业生产中,反应磁控溅射方法更为可取.
关键词:
磁控溅射
,
二氧化硅薄膜
,
光学特性
冯丽萍
,
刘正堂
,
刘文婷
,
李阳平
,
陈继权
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2005.02.006
采用射频磁控反应溅射法,以高纯Si为靶材,高纯O2为反应气体,成功地在蓝宝石基片上制备出了二氧化硅(SiO2)薄膜,并对薄膜的沉积速率、成分、结构及红外光学性能进行了研究.结果表明,制备的SiO2薄膜与蓝宝石衬底结合牢固;和其它镀膜技术相比,射频磁控反应溅射法可以在较低的温度下制备出SiO2薄膜;制备出的SiO2薄膜在3～5μm波段对蓝宝石衬底有明显的增透效果.
关键词:
磁控反应溅射
,
蓝宝石
,
二氧化硅薄膜
