主沉浮
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魏云鹤
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于萍
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郭晓玉
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刘秀玉
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王蕾蕾
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崔巍
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张长桥
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2003.08.006
利用二次电子成像技术分析了Galvalume镀层在NaCl,Na2SO4以及NaCl+Na2SO4介质中腐蚀产物的形貌,并用X射线衍射技术分析了各种腐蚀产物的化学组成.结果表明,在NaCl介质中的腐蚀产物主要为结构疏松的晶态物质,对镀层基本无保护作用;而在Na2SO4以及NaCl+Na2SO4介质中的腐蚀产物主要为结构致密的非晶态物质,对镀层具有较强的保护作用,说明SO2-4的存在是形成致密非晶产物的根本原因.
关键词:
Galvalume
,
腐蚀产物
,
X射线衍射技术
,
二次电子成像技术
