侯亚奇
,
张弓
,
庄大明
,
吴敏生
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2004.05.017
利用中频交流反应磁控溅射技术制备TiO2薄膜, 利用AES、XRD和SEM分析了制得的TiO2薄膜的成分、结构和表面形貌, 并利用多种降解对象研究了TiO2薄膜的光催化降解性能.结果发现:利用Ar/O2混合气体反应溅射纯Ti靶制备的TiO2薄膜符合化学计量比, 呈现柱状生长.TiO2薄膜均为锐钛矿相, 晶粒随薄膜厚度增加逐渐长大.制得的TiO2薄膜对亚甲基蓝、甲基橙和敌敌畏都具有确实的光催化降解效果, 同时具有很好的光催化性能稳定性.
关键词:
TiO2薄膜
,
中频交流磁控溅射
,
光催化降解
,
亚甲基蓝
,
甲基橙
