欢迎登录材料期刊网

材料期刊网

高级检索

  • 论文(1)
  • 图书()
  • 专利()
  • 新闻()

深亚微米三栅FinFET短沟道效应和拐角效应计算机模拟分析

王洪涛 , 王茺 , 李亮 , 胡伟达 , 周庆 , 杨宇

功能材料

利用三维器件模拟软件,研究了深亚微米三栅FinFET的短沟道效应,并模拟了阈值电压和亚阈值摆幅随硅鳍(fin)厚度和高度的变化情况.通过优化硅鳍厚度或高度,可以有效的控制短沟道效应.在进一步对深亚微米三栅FinFET的拐角效应进行二维数值模拟的过程中,并未观察到由拐角效应引起的泄漏电流.与传统的体硅CMOS结构有所不同,拐角效应并未使得深亚微米三栅FinFET性能变差,反而提高了其电学性能.

关键词: 三栅FinFET , 短沟道效应 , 亚阈值摆幅 , 拐角效应

出版年份

刊物分类

相关作者

相关热词