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控制降温对近空间升华法沉积CdZnTe薄膜形貌与结构的影响

高俊宁 , 袁妍妍 , 何亦辉 , 于晖 , 仝俊利 , 王涛 , 介万奇

功能材料

采用场发射扫描电镜和X射线衍射技术研究了生长结束后的降温过程对以近空间升华法生长的CdZnTe薄膜形貌与结构的影响。分析了快速(炉冷,673K以上-8K/rain)和慢速(-2K/min)两种降温速率下获得的CdZnTe薄膜的结构与形貌,并考察了降温中是否阻断生长源向薄膜的传质的影响。结果表明,所得到的薄膜均为闪锌矿结构,降温时薄膜的持续生长将抑制晶粒在平面内铺展而使其棱角钝化的趋势,以较慢的速率降温和降温时阻断传质均有利于提高薄膜的致密度,降低粗糙度及薄膜的织构强度。

关键词: Ⅱ—Ⅵ族半导体 , CdZnTe薄膜 , 近空间升华

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