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Hf对Pt改性γ’-Ni3Al单相磁控溅射层氧化行为的影响

牛建民 , 王文 , 朱圣龙 , 王福会

材料保护

γ'-Ni3Al高温合金表面溅射纳米晶涂层和铂改性γ'+γ'涂层的成分、结构与基体相近,涂层脆性、相容性等改善明显,但有关改性层抗高温氧化性的研究有待深入。通过磁控溅射方法在γ'-Ni3Al基高温合金表面沉积Ni3(Al,Hf)纳米晶涂层,在溅射层表面电镀1.5μm的Pt,1150℃扩散退火1h,得到Pt+Hf改性的γ'-Ni3Al单相涂层,不含Hf的涂层中没有明显的浓度梯度,而含Hf涂层中则有明显的浓度梯度。通过场发射扫描电镜(EFG—SEM)、X射线衍射(XRD)、电子探针(EPMA)和能谱(EDX)分析了涂层的结构与成分,考察了Pt改性γ'-Ni3Al单相涂层在l050oC下空气中的氧化行为。结果表明:不合Hf的涂层生成外层为NiAl2O4、内层为Al2O3的复合氧化膜,含Hf的涂层均生成单一的Al2O3膜,Hf促进了Al的选择性氧化。适当含量的Hf降低了Pt改性γ'-Ni3Al涂层的氧化速率,但是过高含量的Hf则使得涂层的氧化速率升高。

关键词: Ni3(Al,Hf)纳米晶涂层 , Pt改性 , 磁控溅射 , γ'-Ni3Al高温合金 , 高温氧化行为

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