周幼华
,
陆培祥
,
杨光
,
杨义发
,
郑启光
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2007.00545
采用飞秒脉冲激光沉积法在Si(100)和Si(111)单晶基片上制备了均匀的单相β-FeSi2薄膜; 用X射线衍射(XRD), 场扫描电镜(FESEM), 能谱仪(EDX), 傅立叶红外拉曼谱仪(FTRIS)研究了薄膜的结构、组分、表面形貌和光学性能. 观察到了β-FeSi2在Si单晶基片上的生长与晶面取向有关的证据, 并在室温(2℃)下观测到β-FeSi2薄膜的光致发光, 其发光波长为1.53μm; 在氩离子514nm激光的激发下, 在192.0和243.9cm-1等位置观察到β-FeSi2的拉曼散射峰.
关键词:
β-FeSi2,飞秒, 脉冲激光沉积法(PLD), 光致发光
