朱兴文
,
李勇强
,
陆液
,
李英伟
,
夏义本
无机材料学报
doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2007.02.034
采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了[101]取向的Li:ZnO薄膜,研究了该薄膜的光学性能随热处理温度变化的规律.结果表明,399nm的发光峰是由Li的杂质能级引起;与[002]取向的薄膜相比,未经热处理的[101]薄膜其光学带隙大,且出现了380nm附近的带边发射(NBE)峰;在560～580℃热处理下,其晶胞变小、光学带隙变窄、360nm左右的带间发光峰红移;当热处理温度升至610℃时,薄膜中再次出现380nm的NBE峰.
关键词:
ZnO薄膜
,
Li掺杂
,
[101]取向
,
PL谱
