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用扫描电镜直接观察变形材料中的位错结构──[001]取向铜单晶疲劳位错结构的研究

宫波 , 陈道伦 , 苏会和 , 王中光

金属学报

用扫描电镜（SEM）的电了通道讨度（ECC）技术研究了[001]取向铜单晶中的疲劳位错结构结果表明，SEMECC技术不仅可以真实地、全面地显示疲劳位错组态，而且还揭示了表面出现的宏观形变带与位错结构的对应关系.

关键词: 扫描电镜 , electron channeling contrast , copper single crystal , dislocation structure