吴家刚
,
朱基亮
,
朱建国
,
于光龙
,
袁小武
,
肖定全
功能材料
采用射频磁控溅射技术在室温淀积、其后在700℃下退火10min,制备了(Pb,La)TiO3(简记为PLT)铁电薄膜.利用XRD研究了薄膜的结晶性;利用XPS研究了薄膜表面的化学成分、组分以及表面原子的化学价态;利用SEM研究了薄膜的断面.薄膜结构分析结果表明,在一定的制备工艺条件下,薄膜制备时间的长短对薄膜结晶性能的影响不大;XPS波谱分析表明,所测得的元素有Pb、La、Ti、O和C,其中C元素是薄膜在制备或测试过程中的污染,薄膜中没有其它杂质元素;由断面的SEM分析可知,在本论文采用的制备工艺条件下,薄膜与基底之间基本上没有互扩散,薄膜与基底的界面比较清楚.
关键词:
射频磁控溅射
,
铁电薄膜
,
(Pb,La)TiO3
,
XRD
,
XPS
,
SEM
朱基亮
,
朱建国
,
申林
,
潘宇
,
肖定全
功能材料
利用(Pb,La)TiO3陶瓷靶材,采用射频磁控溅射技术室温淀积,其后在600℃下退火,制备了PLT铁电薄膜.通过对薄膜进行XPS和EDAX分析,发现薄膜表面富钛.与利用其它工艺技术如多离子束反应共溅射、sol-gel等技术制备的PLT铁电薄膜进行对比可以看出,利用不同技术制备的铁电薄膜,具有不同的表面态.
关键词:
射频磁控溅射
,
(Pb,La)TiO3
,
铁电薄膜
,
EDAX
,
XPS
