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含有易挥发元素的Eu2PdSi3光辐射悬浮区熔法晶体生长

徐义库 , 王丹丹 , 宋绪丁 , 于金丽 , 肖君霞 , 郝建民 , 刘林 , 张军 , L(O)SER Wolfgang

材料热处理学报

新型磁盘存储材料Eu2PdSi3单晶制备由于Eu的挥发问题一直是一个难点.本文采用光辐射加热悬浮区熔法尝试制备了Eu2PdSi3单晶.采用标准化学成分配比制备给料棒,制备出的Eu2PdSi3晶体为胞状晶,分析是由于熔区成分发生变化,发生成分过冷导致胞状组织;采用给料棒成分调整法成功生长出大块Eu2PdSi3晶体.研究发现,采用3 MPa循环Ar气并不能完全抑制Eu在高温下的挥发,继续增大保护气体的压强配合给料棒成分调整,有利于解决Eu元素的挥发问题.

关键词: 悬浮区熔 , 单晶生长 , 稀土化合物 , 胞状组织

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