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更低温度下和重复再生时NiO/SiO2催化剂上甲苯完全氧化反应

Sang Wook Han , Myung-Geun Jeong , Il Hee Kim , Hyun Ook Seo , Young Dok Kim

催化学报 doi:10.1016/S1872-2067(16)62514-7

采用原子层沉积法将NiO沉积到粒径约为100 mm、平均孔径为14 nm的中孔SiO2颗粒的壳层(壳层厚度11 nm)区域,并分别在450和600°C进行热处理。将制得的这两种Ni/SiO2样品用于催化甲苯分子吸附及其氧化为CO2的反应中。结果发现,在450°C热处理的样品在甲苯吸附及其随后氧化为CO2的反应中表现出更高的活性;当将该样品暴露在160°C甲苯蒸气中,然后加热到450°C时,排放出CO2,而几乎没有甲苯脱附出来。这表明该催化剂可用于在200°C以下操作的、用于消除建筑物内有味气体的设备中,且该催化剂可以在450°C下经过热处理得到再生。

关键词: 多相催化 , 化学吸附 , 热脱附 , 中孔材料 , 甲苯氧化

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