程伟明
,
李佐宜
,
杨晓非
,
黄致新
,
鄢俊兵
,
李震
,
程晓敏
,
林更琪
稀有金属材料与工程
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了TbFeCo/Pt非晶垂直磁化膜,研究了Pt底层对TbFeCo薄膜磁性能与磁光性能的影响.结果表明:具有微小颗粒凹凸结构的Pt底层可以显著增大TbFeCo薄膜的垂直磁各向异性场与矫顽力,改善薄膜的磁光温度特性.
关键词:
射频磁控溅射
,
Pt底层
,
TbFeCo/Pt非晶垂直磁化薄膜
,
矫顽力
,
克尔旋转角
郭继花
,
黄致新
,
崔增丽
,
杨磊
,
邵剑波
,
朱宏生
,
章平
功能材料
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜,研究了溅射工艺对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响.测量结果表明,基片与靶间距为72mm,溅射功率为75W,溅射气压为0.5Pa,薄膜厚度为120nm时,GdTbFeCo薄膜垂直方向矫顽力为477.6kA/m,克尔角为0.413°.
关键词:
射频磁控溅射
,
GdTbFeCo
,
磁光性能
,
溅射工艺
黄致新
,
章平
,
张玉龙
,
王辉
,
吴斌
,
张锋
,
李佐宜
稀有金属材料与工程
采用射频磁控溅射法制备了TbCo非晶垂直磁化膜,并就制备工艺及参数对其磁各向异性能的影响进行了研究.结果表明:磁性层组分、溅射气压、基片偏压以及后退火温度对TbCo非晶垂直磁化膜的磁各向异性能都有不同程度的影响.当Tb含量为30%左右,或溅射气压为0.53 Pa时,TbCo薄膜的磁各向异性能Ku会呈现极大值.基片偏压超过-60V以后,TbCo薄膜Ku值开始显著上升,但超过-120 V以后,Ku值开始趋向饱和.200 ℃以上真空退火会使TbCo薄膜磁各向异性能Ku值明显下降.产生这些现象的原因与薄膜微观结构的改变有关.
关键词:
TbCo薄膜
,
磁各向异性
,
磁控溅射
,
工艺参数
黄致新
,
李佐宜
,
但旭
,
晋芳
,
林更琪
稀有金属材料与工程
在SPF-430H溅射系统上采用不加偏压的射频磁控溅射法制备了TbCo非晶垂直磁化膜,并就Cr底层对TbCo非晶垂直磁化膜磁性能的影响进行了研究.结果表明,Cr底层的存在能够增强TbCo非晶垂直磁化膜的磁各向异性,并使得其矫顽力增加.分别采用VTBH-1型高感度振动样品磁强计和MTL-1磁转矩系统测量了TbCo薄膜的磁滞回线和磁转矩曲线.结果发现,厚度为120 nm,并带有180 nm厚度Cr底层的Tb31C69薄膜的矫顽力和磁各向异性能分别高达51.2×104 A/m和0.457 J/cm3;没有带Cr底层的同样厚度的Tb31C69薄膜的矫顽力和磁各向异性能分别只有35.2×104 A/m和0.324 J/cm3.Hitachi X-650型扫描电镜的观测结果表明,带有Cr底层的TbCo薄膜具有柱状结构,这一柱状结构导致了磁各向异性能的增强以及矫顽力的提高.
关键词:
磁性
,
TbCo/Cr薄膜
,
磁控溅射
晋芳
,
李佐宜
,
黄致新
,
李震
,
程晓敏
材料导报
光磁混合记录技术是一种将磁光记录及磁记录的优点相结合,获得极高存储密度的新型数据记录方式.文中较全面地介绍了这种记录方式的基本原理、读写方式、记录介质及记录磁头研究现状,展望了这种记录方式的前景,探讨了目前所面临的问题.
关键词:
光磁混合记录
,
高密度存储
,
超顺磁极限
,
巨磁阻磁头
许小红
,
李佐宜
,
段静芳
,
张晋芳
,
黄致新
,
林更其
稀有金属材料与工程
研究了真空退火对 TbCo薄膜结构和磁性能的影响.结果表明:薄膜从溅射态的非晶薄膜转化为退火态的微晶薄膜,并以( 100)面择优取向,其 c轴平行于基片.在真空退火不改变 TbCo薄膜的成分的条件下,发现 TbCo薄膜从溅射态的垂直磁化膜转化为退火态的面内膜.
关键词:
退火
,
磁性能
,
TbCo薄膜
