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退火处理对掺锑Zn-Sn-O薄膜的特性的影响

黄树来 , 姜永超 , 盖凌云 , 徐进栋 , 王雨生 , 马瑾

功能材料

首次在低温下采用磁控射频溅射技术在玻璃衬底上制备出具有多晶结构的掺锑锌-锡-氧(Zn-Sn-O:Sb)透明导电膜.研究了在通氧气氛制备薄膜的特性以及退火处理对制备薄膜结构和光电性能的影响.经真空退火后,氩氧混合气体溅射制备的Zn-Sn-O:Sb透明导电膜的最小电阻率为4×10-2Ω·cm,相应载流子浓度和霍尔迁移率分别为2.1×1019cm-3,8cm2·V-1·s-1.薄膜的可见光平均透过率达到了92.4%.薄膜具有较高的热稳定性和化学稳定性,对玻璃衬底有良好的附着性.

关键词: 磁控射频溅射 , 透明导电膜 , Zn-Sn-O:Sb

Zn-Sn-O透明导电膜的制备和光电性质

马瑾 , 黄树来 , 计峰 , 余旭浒 , 王玉恒 , 马洪磊

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2004.03.019

采用射频磁控溅射法在7059玻璃衬底上低温制备出Zn-Sn-O透明导电薄膜.制备薄膜为非晶结构,并且具有很好的稳定性,与玻璃衬底具有良好的附着性.薄膜主要是依靠膜中的氧空位导电,薄膜的电阻率强烈地依赖溅射气体中的氧分压.制备薄膜的最低电阻率为2.27×10-3 Ω·cm,在可见光范围内的平均透过率达超过90%.

关键词: 透明导电膜 , Zn-Sn-O , 射频磁控溅射

磁控溅射有机衬底ZnO:SnO2透明导电膜的结构和光电特性

黄树来 , 马瑾 , 计峰 , 余旭浒 , 王玉恒 , 马洪磊

功能材料

采用磁控溅射技术在有机衬底上低温制备出具有低电阻率和良好附着性的ZnO∶SnO透明导电膜.研究了制备ZnO∶SnO薄膜的结构、成分和光电性质.制备薄膜为非晶结构,有机衬底ZnO∶SnO透明导电膜的最低电阻率约10-2Ω*cm,可见光平均透过率>82%.薄膜中的氧偏离理想化学配比,氧空位是薄膜中载流子的主要来源.

关键词: 有机衬底 , ZnO∶SnO薄膜 , 磁控溅射

薄膜厚度对ZnO∶Al透明导电膜性能的影响

郝晓涛 , 马瑾 , 马洪磊 , 杨莺歌 , 王卿璞 , 黄树来

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2002.03.003

铝掺杂的氧化锌(ZnO∶Al)透明导电膜是采用射频磁控溅射法在有机衬底(Polypro-pylene adipate, PPA)和Corning 7059玻璃上制备的.详细研究了薄膜的结构性质、光学和电学性质随薄膜厚度的变化关系.制备的ZnO∶Al薄膜具有(002)面的单一择优取向的多晶六角纤锌矿结构,性能优良的薄膜电阻率在两种衬底上分别为2.55×10-3Ω·cm和1.89×10-3Ω·cm,平均透射率达到了80%和85%.

关键词: ZnO∶Al透明导电膜 , 薄膜厚度 , 柔性衬底

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