胡社军
,
温伟祥
,
曾鹏
,
吴起白
,
谢光荣
,
黄拿灿
,
胡显奇
,
盛钢
,
盛忠
材料导报
利用射频/直流磁控溅射法,制备了316L不锈钢/SiO2(Al2O3)复合膜,研究了薄膜的组织和形貌,测试了薄膜的显微硬度和耐磨性.结果表明,溅射316L不锈钢薄膜和316L/SiO2(Al2O3)复合薄膜都呈柱状晶结构,主要由Fe-Cr和γ-Fe相构成;溅射316L不锈钢薄膜在Fe-Cr(110)晶面出现明显的择优取向;由于射频溅射陶瓷的掺合,使316L不锈钢/陶瓷复合薄膜柱状晶细化,并出现二次柱状晶,在Fe-Cr(211)晶面出现明显的择优取向,尽管316L不锈钢/陶瓷复合膜的显微硬度相对于磁控溅射316L薄膜提高不大,但其抗磨损性能明显提高,以316L/Al2O3复合膜尤为显著.
关键词:
司
,
射频/直流磁控溅射
,
不锈钢/陶瓷薄膜
,
组织
,
性能
尚红霞
,
黄拿灿
,
黄惠平
,
胡社军
,
曾令湖
,
伍婉华
,
朱海泉
材料科学与工艺
doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2000.02.019
用中频感应炉熔炼了新型超低碳高合金奥氏体不锈钢MHB4和316L不锈钢,研究了它们在不同介质中的抗腐蚀性能.结果表明,由于MHB4增加了Cr、Ni和Mo的含量,并加入W, 极大地提高了抵抗Cl-离子引起的点蚀能力,因此MHB4的耐点蚀、耐缝隙腐蚀以及在合成海水中的抗蚀性均优于316L不锈钢.
关键词:
MHB4
,
耐蚀性
,
合成海水
曾鹏
,
胡社军
,
谢光荣
,
黄拿灿
,
吴起白
材料热处理学报
doi:10.3969/j.issn.1009-6264.2001.03.014
研究了脉冲偏压对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响.结果表明脉冲偏压幅值在500-1700V,脉宽比在1/25～2/5的范围内,沉积温度低于250℃时膜层组织主要由Ti2N和TiN相构成,随脉冲偏压幅值和脉宽比的增大,晶面的择尤沉积由Ti2N(200)向(002)转变,柱状晶生长程度减弱.膜层具有较高的显微硬度和耐磨性,但在过高的脉冲偏压和脉宽比的沉积条件下,膜层的性能有下降的趋势.
关键词:
脉冲偏压
,
真空电弧沉积
,
TiN薄膜
,
组织性能
尚红霞
,
胡社军
,
吴起白
,
黄拿灿
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2000.09.007
研究开发了一种用微量添加剂取代铬酐的新型电解抛光工艺,适用于Cr13型马氏体不锈钢工件在真空热处理后的直接电化学光亮处理.通过加入增稠剂和缓蚀剂,降低了电解液的酸含量,抑制了工件表面的局部腐蚀,可得到光亮平整的表面,抛光液寿命长.
关键词:
电解抛光
,
马氏体不锈钢
,
添加剂
曾鹏
,
胡社军
,
谢光荣
,
黄拿灿
,
吴起白
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2001.08.004
用X-射线衍射仪(XRD)、俄歇电子能谱分析仪(AES)、电子探针(EPMA)、差示扫描量热仪(DSC)和超微显微硬度计研究了低能氮离子束对非晶Ni-P合金镀层进行轰击的晶化规律,分析了在低能氮离子束作用下的非晶薄膜的组织结构和显微硬度.结果表明,用能量为3.0～4.0 keV,束流为80～200 mA的低能氮离子束对非晶Ni-P镀层进行轰击,镀层中可以晶化析出Ni和Ni3P相,并在Ni(111)晶面上出现择优取向.随低能氮离子束的轰击能量和束流的增大,Ni-P非晶镀层中Ni和Ni3P的晶化温度下降,束流对晶化温度的影响比加速电压的影响大.载能粒子对非晶薄膜的作用,产生氮离子注入效应,使表层的含氮量增加.随束流的增加,显微硬度增加减缓,而随氮离子束加速电压增加,显微硬度增加明显,在4 000 V加速电压的氮离子束轰击下,显微硬度达到HV2 131,比一般退火晶化方法所得到的显微硬度显著提高.
关键词:
低能离子束轰击
,
Ni-P非晶镀层
,
晶化
,
组织结构
,
显微硬度
曾鹏
,
胡社军
,
谢光荣
,
黄拿灿
,
吴起白
材料工程
doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2000.09.010
采用Ti/W复合靶用多弧离子镀技术沉积了(Ti,W)xN合金涂层,并对该涂层的组织与性能进行了研究.结果表明,涂层组织致密,孔隙率极低,主要结构为(Ti,W)2N,并具有较高的显微硬度和抗氧化性.在沉积过程中存在着多元合金涂层与复合靶的成分离析现象,这与靶材的结构有关.
关键词:
多弧离子镀
,
(Ti,W)xN涂层
,
组织性能
,
成分离析
胡社军
,
曾鹏
,
谢光荣
,
黄拿灿
,
吴起白
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2000.03.008
采用Ti/Mo复合靶,用多弧离子镀技术沉积了Ti-Mo-N多元多层膜,并对其组织结构与性能进行了研究.结果表明:在本试验条件下多元膜的结构形式为(Ti,Mo)2N,最佳多层膜的结构形式为基体/Ti/TiN/(Tiy Mo1-y)N/(Ti,Mo)2N,并具有较高的显微硬度、耐磨性和极低的孔隙率,在800℃具有很好的抗氧化性能.在沉积过程中存在着多元合金膜层与复合靶的成分离析现象,这与靶材的结构有关.
关键词:
多弧离子镀
,
Ti-Mo-N多元膜
,
多层膜
,
组织与性能
